中古 HIGHMAX UV-200 #293751573 を販売中

HIGHMAX UV-200は半導体プロセス工学の分野で使用するために設計されている高度の露出装置です。システムは、高出力の水晶ランプ、フレーム、冷却ユニットで構成されています。200 W/cm²までの紫外線照射の優れた均一性を提供します。UV-200で使用されるクォーツランプは、優れたフォトリソグラフィと長い寿命のために非常に最適化されたスペクトルを持っています。フレームは良質材料で構成され、露出単位の信頼性そして安定性を保障します。冷却ユニットは、石英ランプの寿命を大幅に向上させ、すべての露光プロセスの再現性と一貫性を確保するために一貫した作業温度を維持する埋め込み放熱機構を備えています。HIGHMAX UV-200の特徴は10nmまでの露出線量の精密な制御を可能にします。また、高精度のウェーハアライメントとオートフォーカスを備え、UV露出の正確なバイアスを可能にします。ユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスと直感的なプログラミング設定により、このツールを使いやすく操作できます。さらに、プログラム可能な設定により、さまざまな露出モード、露出曲線、およびその他のカスタマイズ可能なパラメータが可能になります。また、高解像度のCCDカメラを搭載し、撮影時のシャッタースピード、フォーカス、ズーム、シャッターエリアなどのパラメータ設定が可能です。このモデルはまた、基板全体の均一な露出を確保するために、中央追跡光源を備えています。また、システムの安全な動作を確保するための保護機能を備え、信頼性を高めています。UV-200は、さまざまな半導体プロセス工学アプリケーションで優れた性能と優れた信頼性を提供します。多種多様な機能を備え、フォトリソグラフィ、微細加工、レーザーアシスト加工などの用途に最適です。