中古 EXFO / EFOS IQ-203 #9152167 を販売中

EXFO/EFOS IQ-203は、EXFO Instrumentsのエンジニアリング専門家によって作成された高度な露光装置です。このシステムは、25ナノメートル以下の臨界寸法（CD）ライン/スペース測定用に設計されています。EXFO IQ-203は、自動化されたプローバーおよび3軸ポジショニングプラットフォームを使用して、正確で反復可能な露光性能を保証します。露光ユニットには、高誘電率の材料用の自動フォトレジストコーティングプラットフォームも内蔵しています。EFOS IQ-203は、最先端の光学系を使用して、一貫した高解像度イメージングを提供します。露出機のハードウェアは、正確な画像処理に必要な高精度の動きに耐え、対応できるように設計されています。このツールは、光学部品を正確かつ繰り返し位置決めするために3軸サーボ電動ポジショナを使用しています。X-Yステージの解像度は0。1 µm、位置精度は1 µmです。3番目の（Z）軸は、0。01 µm精度の運動で200 µmの焦点深度を提供します。さらに、露出アセットには、イメージングオプティクスに関して基板の完全な角度制御を提供する回転ステージが含まれています。また、高性能イメージングモデルIQ-203付属しています。この機器は、均一な視野を持つ単色または多色の照明を利用しています。また、高解像度のデジタルカメラを搭載し、最大3ミクロンの解像度で画像を生成することができます。さらに、露光システムには、サンプルの動きに基づいて画像を調整するオートフォーカス機能が内蔵されています。EXFO/EFOS IQ-203は、サンプル上の重要な寸法と特徴を測定する精密計測ユニットと統合されています。オンボードレーザーを搭載し、非接触測定の高速化を実現しています。さらに、露出ツールには、露出プロセスを簡単に設定および監視できる自動制御ソフトウェアが含まれています。全体として、EXFO IQ-203は高精度のイメージングと計測のために設計された高度な露出アセットです。統合されたハードウェアとソフトウェアにより、サンプルの重要な機能と寸法を迅速かつ正確に測定できます。このモデルは、高度なマイクロエレクトロニクスおよび半導体アプリケーションに最適です。