中古 EXFO / EFOS 100SS #9061200 を販売中

EXFO/EFOS 100SSは、高度なリソグラフィープロセス開発のための優れた精度と再現性を提供するように設計された最先端の露光装置です。ワイドダイナミックレンジのステップとリピートX -Yマスク配置ユニットを使用して、スリット露出マスクの露出を最適化します。EXFO 100SSは、露光時の位置精度と安定性を向上させたハイエンドのフローティングステージ露光機を使用しています。このツールは、高速性と再現性に優れているため、小型化などの高解像度の直接書き込みアプリケーションに最適です。EFOS 100SS露出アセットはプログラム可能なステージを採用しており、異なるスリット露出マスクの自動露出の柔軟性を容易にします。このモデルのスリット露出機能には、ビームの発散軸コンポーネントを照合してウェーハ上にリニアスリット画像を形成するアライメント装置が含まれます。これにより、スリット画像がウェーハ上に正確に配置され、サイズや形状の変更が最小限に抑えられます。さらに優れた結果を得るために、ハロゲン光源と広帯域幅のレーザー光源を備えた光学整列デュアルイルミネーションユニットを備えています。これにより、露光に必要な波長の照明オプションの範囲のいずれかが可能になります。また、デュアルソース照明により、露光線量をより細かく制御し、露光プロセス全体で正確なフォーカストラッキングを行うことができます。100SSはまた、ダイナミックスリットスキャン機能により、幅広い露光範囲で高速スキャン速度の利点を提供します。スリットスキャン機能により、ウェーハのさまざまな領域で複数の露出を素早く連続してプログラミング可能なシーケンスで行うことができます。これにより、複数のスリット露出を伴うプロセスで高いスループットが保証されます。さらに、このツールは、クリーンルーム環境のための安全なハウジングとエアロック資産で設計されています。airlockはテストされた装置の汚染なしの露出を保障し、モデルはクラス1-1000の塵フィルターが装備されています。結論として、EXFO/EFOS 100SS露光装置は、その優れた精度と再現性により、高度なリソグラフィープロセス開発のための業界標準を設定します。その高度なスリット露光機能と光学アライメントされたデュアルイルミネーションシステムは、あらゆる波長を正確に露出する柔軟性を提供します。高速スキャン速度とクラス1-1000ダストフィルタにより、スループットが向上し、汚染のない環境が実現します。