中古 DRC UV-M10 #293642351 を販売中

DRC UV-M10は、半導体および薄膜デバイスの製造における高性能を目的とした強力な露光装置です。このシステムは高度に自動化されており、フォトリソグラフィ処理ワークフローの3つの重要なステップ（基板の読み込み、露出、露出後のベーク）を統合しています。統合されたワークフローにより、効率的で費用対効果の高いデバイス製造プロセスが実現します。UV-M10は、2つのテーブルアームを備えた大面積の円形アライメントユニットを備えており、効率的な基板の積み下ろしを可能にします。マニュアルと自動化された生産の両方に対応でき、基板のサイズや製造されるデバイスの種類に応じて幅広いアライメント精度を備えています。さらに、機械は顧客の要求に従って容易に構成可能、非常にカスタマイズ可能であるように設計されています。露出ツールには、高度な超高解像度プロジェクション資産が装備されています。このモデルは、最大40 mJ/cm²のActinic UVエネルギーを提供し、1時間あたり最大1400ウェーハのスループットを実現します。また、アクチニックUV放射に対する基板の均一な露出を保証する遮光装置を備えており、最終デバイスの均一なパターンサイズと高い均質性をもたらします。DRC UV-M10は、温度制御、急速冷却および乾燥、半自動サンプル処理など、露出後のベーク（PEB）機能を幅広く提供します。生産に必要な時間とエネルギーを最小限に抑えながら、デバイスの性能と歩留まりの面で最適な結果を保証するように設計されています。さらに、デバイスの生産要件に応じて露光パラメータと基板温度を調整できる包括的なソフトウェアツールを提供しています。これにより、製造されるデバイスの複雑さを考慮しながら、信頼性の高い製造プロセスが保証されます。また、このソフトウェアは、紫外線レベルなどのさまざまな安全性と環境側面、および製造プロセスに関連する潜在的な汚染問題に対処するように設計されています。UV-M10は、半導体および薄膜デバイスの製造に理想的なソリューションを提供する強力で効率的な露出ユニットです。自動化されたワークフローと高度な機能により、製造メーカーは費用対効果の高い方法で高性能デバイスを迅速かつ確実に製造できます。