中古 AXCELIS / FUSION UV #9257126 を販売中

AXCELIS/FUSION UVは、半導体製造に使用されるフォトリソグラフィープロセス用に設計された高スループット露光装置です。193ナノメートルの波長の深いFUSION UVエキシマレーザー光源を使用し、高い再現性を備えた超微細な機能を実現します。このシステムは、シリコン、SiGe、石英、ガラスなどの様々なサイズや材料の基板を最大300mmまで露出することができ、高精度イメージングに最適化されています。さらに、先進的な光学技術とイメージング技術により、15nm以下のナノ範囲と線幅までの分解能を実現しています。この機械は、基板の各層が正確かつ正確に露出できるように、さまざまなプロセスのニーズに合わせて調整された露出を提供することができます。これは、プロジェクトの開発段階で特に有用であり、新しい設計のプロトタイピングとテストのための柔軟なプラットフォームを提供します。また、リアルタイムイメージング最適化技術を搭載しており、正確かつ再現性の高い露光結果を実現しています。AXCELIS UVは、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えた最先端のアセットコントローラを備えており、設定やプロセスの最適化を簡単に変更できます。さらに、モデルは既存のファブに統合することができ、特定のニーズに合わせてカスタマイズできます。装置には一連の安全機能が含まれています。スキャンヘッドには安全シールドが装備されており、人員と作業環境に複数の保護層を提供します。UVは環境に優しいプロセスおよび材料との環境を保護するように設計されています。このユニットは、スループットを最適化し、すべてのエクスポージャーで一貫した結果を達成するように設計されています。これは、高効率の電源、高度な制御アルゴリズム、および高度な光学技術の組み合わせによって達成されます。利用されるレーザー光源は最低の維持および安定した出力の長期使用のために設計されています。全体として、AXCELIS/FUSION UVは効率的で信頼性の高い露出機であり、カスタマイズ可能な露出プロファイルを備えた高精度のイメージングを提供し、最適なスループットを提供します。あらゆる半導体製造プロセスに対応する汎用性と費用対効果の高いソリューションです。