中古 AXCELIS / FUSION M 200 PCU #9095387 を販売中

AXCELIS/FUSION M 200 PCUは、最先端の半導体デバイス技術のための最高精度、最高品質のEUVマスキングを提供する完全な構成可能な半導体ウェーハ露光装置です。8インチ、12インチ、最大16インチのウェーハサイズ用に設計されたこのシステムは、スムーズな転送動作を備えた革新的な大型マスクテーブルを備えており、マスクの書き込みにおいてこれまでにない安定性と正確性を提供します。FUSION M200PCUは、ハイエンドのマスクスループット機能と次世代のカリブレーション機能により、マスク製造の生産性を加速するように設計されています。x、 y、 theta、 zの4つのスキャン軸を備えており、マスクの書き込み精度とサーマルドリフトの存在下での安定性を向上させます。PCUを使用すると、ユーザーが選択した露出フィールドを使用して、高速な最適化とグローバルオーバーレイ補正、およびユーザー指定のスキャン速度と解像度が可能になり、精密なオーバーレイアライメントが可能になります。AXCELIS M200 PCUは、ユーザーフレンドリーで直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを提供します。統合コントローラには、画像品質解析、適応補正、最適化、およびユニットの機能の制御の強化のためのソフトウェアツールが含まれています。このマシンは、ASTAマスク検査ツールと統合することもでき、ユーザーは露出したすべてのマスクフィールドを高精度で監視、測定、修正することができます。PCUツールは、優れた光学ビーム安定性とパワーマッチング機能を備えた高性能レーザー照明光学アセットを使用しています。また、マルチスリットビームデリバリーユニットを備えており、マスクフィールド全体に均一な照明を提供します。統合されたダイナミックビームシェーピングモジュールは、複雑なマスク構造の特徴を優れたシャープなエッジで再現します。オプションの露出スキャナーアクセサリーは、最大0。25um解像度のパターンエクスカーションに組み込むことができます。M-200 PCUには、プロセス制御を最適化するための加熱ウェハチャックを備えた高精度、熱制御、マスク、ウェハステージモデルが装備されています。また、汚染を最小限に抑えるパルス窒素キャビネット、露出プロセス全体にわたって高い安定性を提供する高性能機械段階のセット、および塵の潜在的な有害な影響を排除する空気浄化システムを備えています。AXCELIS/FUSION M-200 PCUは、高いスループット能力を備えた高品質のマスクを製造するとともに、精度、均一性、およびプロセス制御の究極のソリューションを提供する、汎用性の高いユニットです。最先端かつ要求の厳しい半導体マスキングアプリケーションに最適なソリューションです。