中古 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9258173 を販売中

AXCELIS/FUSION 200 PCU（フォトマスク作成ユニット）は、半導体産業のために設計された高度な高精度リソグラフィ装置です。半導体ウェーハを紫外（UV）光にさらすために使用され、高精度、高収率、大容量のデバイス製造の要件を満たします。FUSION 200 PCUには、露出した半導体ウェーハを極めて精密に処理できる、サブミクロン精度（DDSSA）の高精度ダイレクトドライブステッパーが搭載されています。ステッパーには、高精度で高解像度の光学アライメントサブシステムが含まれており、露出マスクをウェハに正確に配置できます。このシステムには、ウェーハのさまざまな領域の独立した露出を可能にする減衰光路長（AOPL）機能も含まれています。AXCELIS 200PCUには、露出された各チップが他のチップと比較して適切な位置にあることを保証する高度な登録ユニットと、露出の精度をさらに高めるダブルエッジ露出穿孔およびペグ機も含まれています。これにより、高精度のリソグラフィに必要な露光強度が画像全体で均一になることが保証されます。さまざまな露出マスクとの互換性を確保するために、このツールは、半導体ウェーハのさまざまな感光層およびドープ層の露出をサポートするためのフィルタの配列を備えています。非常に小さな機能のリソグラフィーには、代替露光技術であるスキャントンネリングリソグラフィー（STL）モデルも含まれています。200 PCUは、偶発的な放射線への曝露を最小限に抑えるために、いくつかの安全機能を採用しています。これらには、光学安全カーテン、密接に監視されたインターロック装置、および自動的に設定されたアナログ露出タイマーが含まれます。このシステムには、露出の強度を調整する自動反射補償ユニットも含まれています。最後に、AXCELIS 200 PCUは、大容量デバイスの製造における厳しい要件を満たすために、高速データインタフェースを内蔵しており、遠隔でのマシンのプログラミングが可能です。これにより、複雑なイメージングシーケンスを完全に自動化して実行できます。要約すると、AXCELIS/FUSION 200PCUは、高精度および大容量の半導体デバイス製造の厳しい要件を満たすように設計された高度なリソグラフィーツールです。この資産には、高精度のDDSSAとクローズドモニタリングモデル、並びにフィルターの配列、STL装置、およびシステムを遠隔でプログラミングするための高速データインタフェースが装備されています。さまざまな機能により、露出の正確さと均一性、および高いレベルの運用安全性が保証されます。