中古 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9123076 を販売中

AXCELIS/FUSION 200 PCUは、リソグラフィと半導体製造のために設計された高精度露光装置です。高精度とスループット・レート、信頼性とパフォーマンスの向上を実現します。このシステムは200Wの最大電源を提供し、EUV、 F2、 KrF、 ArF、およびi-lineソースを含む幅広い波長を備えています。このユニットは、Precision Photolithography Module （PPML）とBeam Scanning Machine （BSS）で構成されています。PMMLは、X線源、マスクアライナー、照明アセンブリ、およびデータ収集ツールで構成されています。X線源は、ターゲットを加熱するために高エネルギーの電子を供給する熱伝導型放電原子源です。このターゲットは、X線の放射を紫外線、可視光、または赤外線に変換します。マスクアライナーは、X線ビーム内のマスクの正確な位置決めを可能にします。そのモーターを備えた5軸ステージは、5度の自由度でマスク位置を調整する柔軟性を提供します。照明アセンブリはビームパターンを形作るレンズ、ミラーおよびフィルターを含む光学部品が熱ゆがみを減らし、エネルギー配分を制御します。データ収集資産は、イメージセンサーから直接露出データを収集および保存します。Beam Scanning Model （BSS）は、1回の実行につき200個のウェーハを同時に処理し、幅広い露出カスタマイズを提供します。例えば、ユーザーはレーザーの脈拍の持続期間、スキャンの形および速度および高精度の適量をカスタマイズできます。また、BSSはオプションのVacuum Based Pre-Scanner （VPS）を提供し、ウェーハの事前アライメントと測定スループットの向上を実現しています。VPSは、露出前にウェーハ上のフィデューシャルマークを識別し、仕様からの逸脱を自動的に修正するレーザーパターン認識アルゴリズムと統合されています。FUSION 200 PCUは、高度な精密アライメントと優れたスキャン精度を組み合わせ、リソグラフィ性能を向上させます。この装置は、複雑で繊細なレイアウトの迅速で正確で信頼性の高い露出を可能にし、重要なリソグラフィ用途に最適なツールです。