中古 ADTEC Adex-3000S #9363513 を販売中

ADTEC Adex-3000S露光装置は、最先端の機能を備えた高度なウェハレベルのマスクレスワークフローツールです。Adex-3000Sは、幅広い半導体/MEMS設計をサポートするために、解像度、パターニング性能、および最大15ミクロンの解像度の範囲を提供します。このシステムには3つの石英ランプ凹面ミラーが装備されており、マルチランプアレイ設計により、最大8インチの基板サイズにわたって均一な照明レベルが保証されます。また、様々なタイプのフォトレジストフィルム、正と負の感光材料への露出をサポートしています。また、ADTEC Adex-3000Sは高度なリアルタイム変調制御ユニットを備えており、1。3nmまでの高精度で微細なパターニングが可能で、近くの露光スポットとは対照的です。この微細な精度により、リソグラフィー設計パラメータを特徴レベルで引き締め、直線性を向上させます。このリアルタイム調整機は、焦点入力を最適化した高速かつ高解像度のマルチパターン露光を可能にし、より高いスループットを実現します。この露光ツールは、高いスループットの空気/ガス対流プレートを利用した斬新な設計アプローチを使用して、露光フィールドを平準化します。これは、表面全体に非常に均一な露出を可能にします。さらに、Adex-3000Sは自己校正アセットを使用して、露出中のマスキングエラーと歪みを排除するために、レーザーの電力変動を検出して補償することができます。ADTEC Adex-3000S露光モデルは、プラズマ波リソグラフィ機能により、高速で信頼性の高いイメージング機能を提供します。この機能により、非常に高速な露出を実現し、画像の歪みを大幅に最小限に抑えることができます。高度なレーザーエネルギーパルス制御装置を使用して、レーザーエネルギー出力を調整および形状化することにより、高解像度化も可能です。Adex-3000Sは、専用のマスクブロックを必要とせずに、高度な設計のバッチ生産とラピッドプロトタイピングをサポートします。これにより、特殊なマスクが不要になるため、生産コストが大幅に削減され、量産コストが削減されます。さらに、これにより、迅速なターンアラウンドプロトタイプと検証プロジェクトが可能になります。従来のマスク製造やウエハー加工で発生したボトルネックを排除します。ADTEC Adex-3000S Exposure Unitは、優れた柔軟性でより高速な品質設計を可能にする独自の機能の組み合わせを提供します。マルチランプアレイ、プラズマ波形リソグラフィ、セルフキャリブレーションマシンにより、従来のマスクパターニングよりも優れた性能と精度をユーザーに提供します。