中古 ULVAC Satella #9160531 を販売中
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ID: 9160531
ヴィンテージ: 2006
Vacuum evaporation system
Cluster tool
Substrate size: 185mm x 235mm x 0.7mmt
Tact time: 30 minutes
Applications: R&D, device prototypes
System configuration:
Pre-processing →Hole layer→Luminescent layer (R→G→B) →Electrode layer→ Sealing (manual)
Organic deposition processes
Multiple independent chamber
Full-color device production
Difficult application for Solciet
7-Sided transfer chamber
Support 2 to 4 organic deposition chambers
High-precision mask alignment mechanism for active-matrix full-color devices
Currently de-installed
2006 vintage.
ULVAC Satellaは、薄膜成膜に使用される革新的なスパッタ装置です。このシステムは、RFマグネトロンスパッタリング源と水平面に配置されたガス駆動イオン源からなる独自の構成を備えています。このユニットは、さまざまな産業、医療、分析用途で使用される高品質の均一なフィルムを製造しています。本体ベースに搭載された無線周波数(RF)マグネトロンスパッタリング源を内蔵しています。導電性フィルムの高い成膜を可能にします。高電圧(HV)ガス源を駆動するイオン源を垂直平面に配置します。これにより、金属ターゲットの同時イオン爆撃を可能にし、滑らかでクリーンな表面コーティングを可能にします。Satellaは、効率的な設計と高性能材料処理能力により、金属基板上にハードコーティングを形成するのに適しています。このツールは、材料イオン化を優れた制御を備えているため、ワークコーティング用途に最適です。イオン源は極めて低温でも高集積ビームを生成し、損傷のリスクなしに均一な蒸着を保証します。このアセットには、操作が簡単なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)やフィルム層の自動蒸着など、ユーザーフレンドリーな機能がいくつかあります。また、温度制御、圧力レギュレーション、自動校正などの便利な機能も付属しています。このモデルは、ロボティクスを含む多くのアダプタと互換性があり、複数のプロセスフロー構成やオートメーションに適しています。ULVAC Satellaには、フルオートでプログラマブルなスパッタリング装置があり、セットアップ時間の短縮と生産スループットの向上を実現します。金属蒸着、薄膜蒸着、半導体蒸着、イオン注入など、さまざまな薄膜蒸着プロセスに使用できます。Satellaは信頼性が高く、ユーザーフレンドリーで費用対効果の高いスパッタリングシステムで、優れた性能で高品質で均一なフィルムを実現します。堅牢な機能と直感的な設計により、このユニットは製品の品質を迅速に向上させたい企業にとって実行可能なオプションです。
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