中古 YES / GLEN R1 #9135632 を販売中

YES/GLEN R1は、さまざまな高度な基板エッチング用途で使用されるパルスプラズマアッシング装置です。これは、自己誘導プラズマプロセスの原理に基づいています。これは、電流の動きによって生成されたプラズマ場を使用して、材料とガス分子の間の反応を作成します。これは、最小限の化学反応剤が必要であることを意味し、より安全で費用対効果の高いワークステーションを作成します。設計の面では、YES R 1はステンレス製の真空チャンバー、誘導結合RF生成システム、ガス入口ユニット、圧力昇圧機、水冷工具、基板ステージで構成されています。最大8つの基板に対応する真空チャンバーは、自己誘導プラズマ過程に必要な環境を提供します。RF生成アセットは、基板に高周波AC電流を印加し、パルスプラズマ場を作成します。ガスインレットモデルには、マスフローコントローラとエッチングガスの圧力と流量を制御するガス圧力レギュレータが含まれています。圧力昇圧装置は、水冷システムが反応蒸気を凝縮し、チャンバーとRF発生ユニットから熱を抽出するために使用されながら、大気圧で可能な限り高い圧力を達成することができます。用途に応じて加熱・冷却が可能な基板ステージを調整し、プラズマ分野において最適な位置にワークを配置することができます。その用途として、GLEN R-1は、フォトエッチング、陽極酸化、ドライフィルムラミネーションなど、さまざまなエッチングおよびモダンティングプロセスで使用できます。それは銅、ステンレス鋼、アルミニウム、チタン、および多くを含むいろいろな金属に、使用することができます。また、ソフトアニーリングからドローアニーリングまで、幅広いアニーリングプロセスを実行することができます。結論として、GLEN R1は高度なパルスプラズマアッシャーであり、その能力に非常に多用途であり、その操作に非常に効果的です。その使いやすさと低メンテナンスコストは、あらゆるエッチングラボに最適な資産です。