中古 YES / GLEN R1 #9049956 を販売中
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ID: 9049956
Plasma etcher
RF Power supply with matching network
Lark sequential microprocessor
(3) Plasma gas inputs
Granville phillips 275
Backfill input
Inside dimensions: 16" x 16" x 16"
(8) 14" x 14" trays
115 V, 60 Hz, 1.4 A, 175 W.
YES/GLEN R1は、半導体製造プロセスに先駆けてウェーハを製造するために設計された高度なエッチングおよびケミカルアッシング装置です。これはYES Technologyによって開発され、ドライエッチングとケミカルアッシングプロセスの両方を1つのシステムで実行できる機能を備えています。このユニットには、ドライエッチングプロセス用のリアクティブイオンエッチャー(RIE)と化学アッシング用の誘導結合プラズマ(ICP)が含まれています。すべてのプロセスは、さまざまなガスを使用して不活性ガス環境で実行することができます。機械には、過圧保護やイオンビーム電流制限などの多くの安全機能が装備されており、ツールの安全な動作を保証します。YES R 1は、高度なオートメーション機能とソフトウェア機能を組み合わせて、高い反復性のエッチングとアッシング性能を提供します。制御、データ収集、プロセス最適化のためのオープンアーキテクチャのコンピュータインターフェイスを備えています。このアセットは、最大9500°C (17,000°F)の温度を達成できる抵抗発熱体を使用して、熱灰化することもできます。GLEN R-1には電界放射走査型電子顕微鏡が搭載されており、加工前にサンプルと基板を正確にアライメントすることができます。また、サンプル処理を容易にするためのロボットサンプルローダーも組み込まれています。このモデルには、装置が確実かつ安全に動作するように、多数の診断、監視、および安全機能が装備されています。このシステムは、一貫したプロセス結果を保証するために、安全なデータベースにレシピ情報を保存および追跡することもできます。R 1は柔軟性が高く、多種多様な半導体エッチングおよびアッシング用途に適しています。高度な自動化機能と高度な安全性と制御の組み合わせにより、高度な半導体生産プロセスに最適です。
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