中古 YES / GLEN G 1000 #293735345 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 293735345
Plasma cleaner
(5) Trays
Operation temperature: 20-100°C
N2 Flow rate: 1.7 SCFM
Process gas flow rate: 20-50 SCCM
Interior chamber dimension (W x D x H): 45.72 x 45.72 x 30.48 cm
Chamber material: 6061-T6 Aluminium
SEMI Compliance: S2/S8
Mass Flow Controller: Up to 3
Range for exposure time: 0-1200 Seconds (20 Minutes)
Resolution of timer setting: 1 Sec
Performance:
RF Plasma power: 0-1000 W @ 550 VAC
RF Leakage magnetic: 0.6 mA/m, 4.15 x 10-7 A2/m²
RF Leakage electrical: 1.6 V/m, 4.2 V2/m²
Nitrogen consumption: 0 SCF, 6.8 SCF, 1.7 SCF
Power consumption with pump: 375 W, 1000 W, 640 W
Reactant gas consumption: 0 SCF, 20-50 SCCM
Heat emission: 920 W
Power requirements: 200-250 VAC, 20 Amps, 50/60 Hz, Single phase
Does not include pressurized cylinder gas.
YES/GLEN G1000は、半導体ウェーハやその他の基板の精密かつ効率的な処理を行うために設計された高度なエッチャーおよびアッシャー装置です。この汎用性の高いツールは、研究開発や大量生産環境に最適な幅広い機能を提供します。その卓越した性能と信頼性により、YES G-1000は世界中の半導体メーカーや研究機関の間で人気のある選択肢です。GLEN G 1000は、単一のプラットフォームでエッチングとアッシング機能を組み合わせたデュアルチャンバーシステムで、ユーザーに比類のない柔軟性とプロセス制御を提供します。このユニットは、高出力RFプラズマ源を備えており、シリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、金属などの様々な材料の高速かつ均一なエッチングを可能にします。デュアルチャンバー設計により、手動でチャンバを再構成することなく、エッチングとアッシングのプロセスを素早く簡単に切り替えることができます。G-1000の主な特徴の1つは、高度なプロセス監視および制御機能です。このマシンには、圧力、温度、RF電力などのプロセスパラメータをリアルタイムで監視できる複数のセンサーと監視ツールが装備されています。これにより、ユーザーは最大のパフォーマンスと再現性のためにプロセス条件を最適化することができます。YES/GLEN G 1000には、高度なガス流量制御システムが搭載されており、ガス流量と比率を正確に制御できるため、ユーザーは非常に均一で再現性の高い結果を得ることができます。性能面では、YES G 1000はエッチングとアッシングの両方に優れています。このツールは、大規模なウエハサイズで高いエッチング率と優れた均一性を実現し、大量生産アプリケーションに適しています。YES/GLEN G-1000はまた、ウェーハ表面からフォトレジストやその他の有機汚染物質を除去するための正確なアッシング機能を提供します。アセットの調整可能なアッシングパラメータにより、異なる材料およびプロセス要件のプロセス条件を最適化できます。YES G1000は、ユーザーフレンドリーなインターフェイスと直感的なソフトウェアコントロールを備えた、ユーザーの利便性を念頭に置いて設計されています。このモデルのソフトウェアインターフェイスを使用すると、プロセスレシピを簡単にプログラムおよび監視したり、高度な診断およびトラブルシューティングツールにアクセスできます。また、G1000は遠隔監視および制御機能を提供しており、ユーザーは遠隔地から機器を監視および制御することができ、利便性と柔軟性が向上します。高度な機能と性能に加えて、G 1000も信頼性が高く、メンテナンスも簡単です。このシステムは、半導体加工環境の厳しさに耐えるように設計された高品質の部品と材料で構築されています。GLEN G1000は、メンテナンスとサービスのためのすべての主要コンポーネントに簡単にアクセスできるモジュール設計を備えています。さらに、このユニットには、ユーザーがダウンタイムを最小限に抑え、生産性を最大化するための問題を迅速に特定して解決するための自己診断ツールが装備されています。全体として、GLEN G-1000は、比類のない性能、汎用性、信頼性を提供する最高級のエッチャーおよびアッシャーマシンです。高度なプロセス制御および監視機能、高性能エッチングおよびアッシング機能、およびユーザーフレンドリーなインターフェースを備えたYES/GLEN G1000は、半導体メーカーや研究者にとって、最先端の処理ニーズに対応するソリューションを求める最適な選択肢です。
まだレビューはありません