中古 UNAXIS / NEXTRAL 100 #9258327 を販売中

UNAXIS/NEXTRAL 100は、幅広い用途に最適な汎用真空エッチャー/アッシャーです。高精細なマイクロストラクチャーや薄膜フォトレジストの作成に適しています。エッチャー/アッシャーは使いやすく、大まかな動作条件でも信頼性があります。また、エネルギー効率に優れ、MSLに準拠しているため、さまざまなプロセスや産業環境に適しています。このデバイスは、エッチング歩留まりを改善するのに役立つ非接触の静電チャックを備えています。このチャックはまた、ターゲット材料が作業面に付着するのを防ぎ、より均一なエッチング面を保証します。チャックはまた、表面の起伏や粒子の形成を防ぎ、微細構造の不安定さやエッジの解像度が低下する可能性があります。UNAXIS 100には、最大4つの独立したエミッタを含むバックサイドイオンソース（BSI）も装備されており、マルチインプラント処理を容易にします。BSI最適化された基板は、複雑な微細構造のエッチングとアッシングを容易にするために、単一または複数のチャンバ構成に配置することができます。BSI機能は、均一で反復可能なプロセスを保証するのにも役立ちます。このデバイスは、クイックプロセスのターンアラウンドタイムに最適化されています。これは、BSIの高速応答時間とプラズマエッチングの均一性によって促進されます。さらに、エッチャー/アッシャーには、正確で最適化されたプロセスパラメータ用のオンボード構成可能なマスフローコントローラが装備されています。これにより、ポリマー、シリコン、ガラス、その他の種類の基板など、さまざまな材料の設定を最適化できます。最後に、NEXTRAL 100には、包括的なタッチスクリーンディスプレイと、便利なデータ操作と制御のための多言語メニューが装備されています。これにより、プロセス結果をリアルタイムで簡単に読み取ることができます。結論として、100エッチャー/アッシャーは、エッチング用途の範囲に適した効果的で信頼性の高いデバイスです。エネルギー効率とプログラム可能な機能により、産業用または実験室の両方の設定に最適です。