中古 ULVAC NA1000 #9150936 を販売中

ULVAC NA1000は、高精度リソグラフィ処理のニーズに対応するために特別に設計されたエッチャー/アッシャーです。この装置は、機械的および電気的フィードバック機構を厳しく制御しているため、エッチングとアッシングを最小限に抑えることができます。エッチャー/アッシャーは、高度なイオンビームプラズマ源を使用して、正確なエネルギーレベルでイオンのビームを生成できる高密度プラズマを正確に作成し、高分解能パターニング処理を可能にします。NA1000には自動ビーム同軸補償モニタ（ABCMTM）が搭載されており、処理中の誤差を絶えず調整し、正確なパターニングを保証します。また、多段イオンのビームサイズを均等に調整する可変焦点レンズシステムを搭載しています。これにより、曲面を含むエッチングおよびアッシング処理に最適です。さらに、ULVAC NA1000は、300kHzのパルス反復周波数で最大550ワットの出力が可能なハイパワードライブレーザーを提供し、超高パワーエッチング/灰プロセスに優れたビーム均一性とエネルギー応答を提供します。NA1000はクリーンルームの適用のために設計され、超きれいな操作を保障するために囲まれた作業室を特色にします。また、真空ポンプを装備し、低真空圧を維持し、プロセスを汚染するリスクを低減します。このマシンは、-80°Cから700°Cまでのウェーハプロセス温度が可能で、さまざまなプロセスに適しています。エッチャー/アッシャーは、クォーツおよびポリイミドメモリカードと互換性があり、ウェーハの位置決めやロード/アンロードに役立つロボットウェーハハンドリングアームなど、さまざまなオプションのアクセサリーが付属しています。全体的に、ULVAC NA1000エッチャー/アッシャーは、リソグラフィープロセスに最適な結果を提供するように設計された高度な精密機械です。その優れた機械的および電気的フィードバック機構、可変焦点レンズ、および高出力レーザーは、安全でクリーンルーム環境で一貫した正確なパターンを保証します。