中古 ULVAC FRE-200E #9244585 を販売中

ID: 9244585
ヴィンテージ: 2014
XeF2 Etch release cluster RF Power supply Full load current: 142 A Maximum load: 15.5 A Over current protective: 250 A Short circuit current rate: 5 Ka Power supply: 280 V, 3 Phase, 60 Hz, 3 Wire+ G Line 2014 vintage.
ULVAC FRE-200Eは、選択性と精度の高い様々な素材を基板にエッチングするために使用されるリアクティブイオンエッチング(RIE)ツールです。直径200mmまでの基板加工が可能です。高度な高周波電源の助けを借りて、FRE-200Eは0から200°Cの間の処理温度のより広い範囲でエッチングを扱うことができます。さらに、構成可能な装置により、LIGA、積層スタック、薄膜プロセス、MEMS、高度なパッケージング、パネルなど、さまざまな半導体基板および重要なパターン形状を処理することができます。ULVAC FRE-200Eはまた、2Dモニターとエンドポイント検出サポートのおかげで、プロセスの均一性を持つユーザーに自信を提供します。また、ウエハ回転機構により、精密エッチングのための均一なイオン分布を確保し、複雑な形状のスムーズな加工を可能にします。さらに、専用の補助インダクタンスの機能は、設計者がエッチプロファイルを最適化し、負荷曲率を低減するのに役立ちます。機械にSubjacentおよびポストエッチングの沈殿のユーザーフレンドリーな方法のための負荷ロックシステムがあります。また、ULVAC独自の「ソフトランド」技術を搭載しており、汚染を防ぎ、異なる基板条件下でのRF電源のスムーズなスケジューリングと動作を可能にするユニークな着陸アルゴリズムです。FRE-200Eはまた、ロックアウト/タグアウトユニット、インターロックドアマシン、安全な動作環境のための水監視ツールなどの最新の安全機能で設計されています。全体的に、ULVAC FRE-200Eは、精度、効率、安全性を兼ね備えたエッチャー/アッシャーツールで、最も複雑な基板でも信頼性の高いエッチングを提供します。その構成可能な資産、高度なRF電源、沈着用ロードロックモデル、プロセス均一性のためのエンドポイント検出は、研究と産業市場の両方にとって貴重なツールとなります。
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