中古 TRION Phantom III #9167672 を販売中

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ID: 9167672
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2008
Reactive ion etcher (RIE), 8" ICP System (4) On board mass flow controllers Gases: Ar O2 CF4 N2 CHF3 Utilizes: Surface mount C-Seal technology Orbital welded VCR fittings Pump: Vacuum pump, chiller Temperature controlled chiller (2) RF Generators 600, 13.56 MHz Automatic matching network Software: Trion 2008 vintage.
TRION Phantom IIIは、多様な半導体基板に対応する汎用性の高い高性能エッチャーおよびアッシャーです。これは、高度なマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に必要なすべてのエッチングおよびアッシング手順を実行することができます。ファントムIIIの主な特徴と機能は次のとおりです。超小型デバイス機能を製造するための高速エッチング性能と低粒子生成。同じプロセスで同じチャンバーでエッチングとアッシングする能力。高精度のウェーハ位置制御装置と、均一性、スループット、再現性の向上。エッチング速度を制御するためのクローズドループプラズマチューニングと制御。オートフィルによる自動プロセスにより、ウェーハの変更を高速化し、スループットを向上させます。ナノメートルスケール製造と微細加工のための高度なエッチング技術。バッチ処理を可能にする複数のローター構成のLoadlockシステム。連続ドライポンプユニットにより、エッチングやアッシングを行いながら安全性を向上。高精度のマルチプロセスウエハとダイリフトマシンにより、部品の正確なアライメントが保証されます。パターン形成でミリ秒レベルの分解能を生成することができます。エッチングの深さを測定し、エッチング結果をリアルタイムで評価する機能。生産性と品質を確保するための完全に自動化された操作とメンテナンスプログラム。安全なデータアクセス制御、エラー追跡、リアルタイムプロセス監視および制御を備えた柔軟なソフトウェアパッケージ。信頼性と安全性を確保するための完全な障害検出および診断ツール。自動化されたウェーハ処理とクリーンアップモデルを搭載し、時間と労力を節約します。特定のプロセスニーズを満たすように完全に構成可能。TRION Phantom IIIは、寿命コストを削減してパフォーマンスを向上させ、サイクルタイムとスループットを大幅に改善できることが証明されています。ファントムIIIは、高度な電子デバイスの製造のための堅牢で信頼性が高く、費用対効果の高いエッチングおよびアッシングプロセスを提供するように特別に設計されています。
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