中古 TRION Phantom III #9039844 を販売中
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ID: 9039844
RIE / ICP System
Bottom electrode: 8”
Vacuum port: 6"
System controller: Pentium computer, touch screen
(6) Mass flow controller gas channels
Automatic pressure control
Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz
Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 1250 watt 13.56 MHz RF generator
Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC
Electrostatic chuck: 6", He backside cooling
Emergency on/off with AC power distribution box
Components:
High vacuum Pump: Osaka TG1003BW and Osaka TC1003 controller
Backing mechanical pump: none
High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve
Chamber pressure transducer: MKS 627
RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM
RF2 Generator: Comdel CX-1250S, RF2 automatch = Trion OEM
Heat exchanger: none
Chuck heat exchanger: Julabo LH85
Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS200
Gas Controls:
Separate exhausted cabinet for gas mixing
He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He
Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CF4
Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with O2
Gas 3 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with Ar
Gas 4 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with SF6
Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CHF3
Gas 6 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with C4F8.
TRION Phantom IIIは、自動化された高スループット、精度、一貫した結果を得るために設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。これは、産業規模で複雑な形状や特徴を生成するために迅速かつ正確な処理を必要とする研究開発ファウンドリのための重要なツールです。ファントムIIIは、同一試料を同時に処理するために、エッチング用と蒸着用の2種類のイオンビームを使用するデュアルフォーカスイオンビーム（FIB）装置を使用しています。これにより、処理時間が短縮され、精度が向上します。デュアルフォーカスイオンビームは、より高いビーム電流安定性、並行イオンビームエネルギーおよびスポットサイズ調整、および幅広いプロセスパラメータの利点を提供します。TRION Phantom IIIは、従来E-Beamで加工したウェーハから、イオンビームエッチングやアッシングを必要とするウェーハまで、幅広く取り扱うことができます。最大100：1の高アスペクト比エッチング、フィーチャーからフィーチャーへのシームレスな変換、および高速で信頼性の高い処理により、Phantom IIIは汎用性と強力なエッチングツールです。TRION Phantom IIIエッチャー/アッシャーには、その場での加熱システム、反動防止メカニズム、制御された環境での迅速なプロセス変更を可能にするプロセスパラメータなどの他の機能も装備されています。さらに、このユニットはカスタムデザインのエッチングレシピでプログラミングすることができ、エッチング結果を完全にカスタマイズすることができます。Phantom IIIはリアルタイムプロセス監視機を備えており、ユーザーはリアルタイムでプロセスを監視して適合性と精度を確保することができます。このツールはまた、プロセスデータと統計プロセス制御（SPC）への直接アクセスを可能にします。TRION Phantom IIIは、その広範な機能と組み合わせて、その設計に統合された安全機能を備えています。これらの機能の中心は、活性スパッタリング保護資産であり、サンプル汚染およびプロセスの不規則性に対する保護を提供します。結論として、Phantom IIIは、自動化された高スループット、精度、一貫した結果を得るために設計された洗練されたエッチャー/アッシャーです。デュアルフォーカスのイオンビームモデルを採用し、さまざまなウェーハに対応可能で、アクティブスパッタリング保護装置などの安全機能を備えています。堅牢な機能とカスタマイズ性を備えたTRION Phantom IIIは、研究開発基盤のための優れたツールです。
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