中古 TRION Phantom II #9225903 を販売中

TRION Phantom IIは、直径200mmまでの基板加工用に設計されたエッチャー/アッシャーです。可変周波数RFジェネレータを搭載した最先端のプラズマエッチングおよびアッシング装置で、高出力、反復可能な処理制御を提供します。高度なプロセス監視および制御ソフトウェアにより、複数のウエハ基板にわたって均一な結果をもたらす信頼性の高い基板処理が可能になります。このシステムは、ポリシリコン、ポリイミド、ケイ酸ガラス、ガリウムヒ素（GaAs）など、さまざまな材料の均一で安全なエッチングとアッシングを維持します。Phantom IIには直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）があり、マウスを数回クリックするだけで自動プロセスを素早くセットアップしてスクリプトすることができます。高度なプロセス制御ユニットにより、手動モードと自動モードの両方で最適なエッチングとアッシングの結果を得ることができます。機械は堅牢で柔軟性があるように設計されているため、化学機械平面化（CMP）などの高度なプロセス手順で使用できます。プロセスパラメータは、さまざまな用途や基板に対して素早く調整可能で、多種多様な材料に適しています。このツールは、処理される材料タイプに応じてエッチングまたはアッシング用の複数のプロセスガス供給で構成できます。そのプロセスチャンバーには、ホットスポットを防ぐためにチャンバーのベースを通してガスを均等に分配する垂直および水平のガス供給システムが装備されています。一方、基板ホルダーは400°Cまで加熱することができ、プロセスの再現性を確保します。安全性と信頼性を向上させるために、TRION Phantom IIには窒素、アルゴン、酸素、二酸化炭素などのプロセスガスのレベルを監視および制御するガス管理システムも含まれています。その真空管理資産は、真空レベルが指定された範囲内にとどまることを保証します。このモデルは軽量で、人間工学に基づいた操作のために設計されています。全体的に、Phantom IIは、均一なエッチングとアッシングプロセスを提供するために、複数の高度な機能を備えた信頼性の高い安全なエッチャー/アッシャーです。ユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、セットアップとスクリプトの作成がこれまで以上に簡単になり、信頼性の高いプロセス制御とプロセス監視により、一貫した結果が得られます。装置の軽量フレームおよび人間工学的設計はそれを長期、大規模なプロジェクトのために適したようにします。