中古 TRION Phantom II #9130028 を販売中

ID: 9130028
ヴィンテージ: 2000
Reactive Ion Etcher (RIE) ICP System Operating system: Windows 2000 Chamber, 8" Gases: SF6, He, CHF3, CF4 Power supply: 230 V, 50/60 Hz, Single Phase 2000 vintage.
TRION Phantom IIは、電子製品の製造に使用されるエッチャー/アッシャーです。このエッチャー/アッシャーは、複数の層の高速かつ効率的な生産のために設計されています。高度なダイナミックプロセス制御を採用し、高いスループットと同時に高いエッチング速度を実現します。ファントムIIは、複数の層の非常に正確なパターニングとマルチレベルのエッチングを提供し、高速かつ効率的な生産で複雑な電子製品の製造を可能にします。TRION Phantom IIには、ユーザーによる基板の取り扱いを排除し、サイクルタイムを短縮する自動基板ローディング装置が搭載されています。ユーザーは、特定の生産要件に応じて、いくつかのエッチングプロセス構成から選択できます。また、エッチングプロセスの高い均一性を確保するために、プロセスパラメータを自動的に最適化します。Phantom IIは、最大5ミクロンの解像度と0。5ミクロンの再現性を備えた高解像度イメージングを提供します。エッチャー/アッシャーには、高精度エッチング用のロープロファイルもあります。また、エッチング可能な素材も豊富で、エッチングに最適な素材をお選びいただけます。このユニットは堅牢な構造設計で動作し、ダウンタイムと損傷を軽減します。TRION Phantom IIは、高度な安全システムのおかげで高いレベルの安全性を備えており、厳格な安全規制に準拠しています。また、エネルギー効率と環境負荷が極めて低いことも特筆すべき点です。ファントムIIは、高耐久性の高い精密部品の加工が可能で、ハイエンド製造に最適な機械です。半導体製品の製造、プリント基板の製造、フラットパネルディスプレイの設計、医療用電子機器のエッチング部品の製造など、幅広い用途に適しています。このエッチャー/アッシャーは非常に信頼性が高く、費用対効果が高いため、さまざまな生産ニーズに最適です。
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