中古 TRION Orion III #293800217 を販売中

TRION Phantom LTは、半導体製造プロセスにおいて高性能で汎用性に優れた先進的なエッチャー/アッシャー装置です。この最先端のツールは、エッチング、アッシング、デカミング、フォトレジストストリッピングなど、さまざまなアプリケーションに精密で均一なプラズマ処理を提供する革新的な技術を組み込んでいます。Phantom LTの主な特徴の1つは、さまざまなプラズマプロセスをカスタマイズして特定の要件を満たすことができる複数のプロセス機能です。高周波RF電源と各種ガスインジェクションオプションを備えており、圧力、ガス流量、パワーレベルなどのパラメータを制御し、プロセス性能を最適化することができます。さらに、このユニットには高度なエンドポイント検出機能が装備されており、正確なプロセス制御とエンドポイントの決定を保証します。TRION Phantom LTは、2つのプロセスガスの独立した制御を可能にするデュアルガスライン設計を備えており、異なるガス化学物質による複雑なプロセスの実行を可能にします。この柔軟性により、二酸化ケイ素や窒化ケイ素のエッチングからフォトレジストの剥離、基板の洗浄まで、幅広い用途に適しています。このツールのチャンバーは、高品質のアルミニウムで構成されており、ウェハの表面全体に均一なプラズマ分布を提供するように設計されています。これにより、一貫した処理結果が保証され、均一でないエッチングまたはアッシャー効果のリスクを最小限に抑えます。このチャンバーには、プロセスの安定性と再現性を最適化するための温度制御機能も装備されています。Phantom LTは、高密度プラズマ源を利用した高度なプラズマ生成技術を採用し、効率的で均一な処理を実現しています。半導体基板から有機・無機材料を素早く効果的に除去することができ、高品質なエッチング・剥離結果が得られます。このアセットには、プロセス制御を強化し、最適な結果を得るためのプロセスパラメータの正確なチューニングを可能にする動的ガス注入モデルも装備されています。機器のユーザーフレンドリーなインターフェイスと直感的なソフトウェアにより、操作とプロセスの監視が簡単かつ効率的になります。このソフトウェアは、リアルタイムのプロセスデータの可視化を提供し、圧力、温度、電力、ガス流量などの主要パラメータを監視することができます。さらに、システムのレシピ管理機能により、プロセスの最適化と制御が容易になり、一貫性のある再現性のある結果が保証されます。結論として、TRION Phantom LTは、半導体製造アプリケーションに比類のない性能と柔軟性を提供する最先端のエッチャー/アッシャーユニットです。高度なプラズマ処理機能、正確な制御機能、ユーザーフレンドリーなインターフェースを備えたこのマシンは、エッチングやストリッピングからクリーニング、表面変更まで、幅広いプロセスに最適です。Phantom LTは、研究開発でも大量生産でも、信頼性の高い高品質な結果を提供し、半導体製造の貴重なツールとなります。