中古 TRION APO III #9216394 を販売中
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ID: 9216394
ウェーハサイズ: 4"
ICP Etcher, 4"
No RIE
Process:
Descum
Ashing with downstream O2 plasma
MFC: O2 2000 SCCM
Heated platen
Heated end effector
Power: 220 V, 60 Hz, 15 A, 3 Phase, 1250 W.
TRION APO IIIは、フォトマスク業界の生産プロセス用に特別に設計された高解像度エッチャー/アッシャーです。APO IIIは、フォトマスクを素早く正確にエッチングまたはアッシングしながら、最大解像度の精度と均一性を実現します。TRION APO IIIは、繰り返し一貫したパフォーマンスと操作の容易さのために設計されています。APO IIIは、完全に密閉されたプロセスチャンバー、マスクハンドリングモジュール、および制御および監視システムで構成される統合機器です。プロセスチャンバーには、2つの精度調整イオン源と4つの加工チャンバーが装備されています。マスクハンドリングモジュールには、マスクから基板への自動アライメントユニットがあり、便利なローディングとマスクアライメントが可能です。TRION APO III制御および監視機械には、圧力制御、RFチューニング、レシピ生成、監視および診断が組み込まれています。APO IIIは最大分解能0。010ミクロンで、均一性と+/-0。0005ミクロンの再現性があります。1つ目のレベルのエッチングプロセスでは、10-20 Angstroms/秒のエッチングレートが生成され、マスクあたり1000 Angstromsまでバイアスエッチングすることができます。TRION APO IIIは、HFおよびHCIによるウェット/ドライプロセスも行い、さまざまな用途のフォトマスクに適用されるハードマスク層を作成します。APO IIIはマルチレベルのエッチングプロセスにより柔軟性を提供し、1つのプロセスサイクルで複数のレイヤーをエッチングすることでスループットを向上させます。TRION APO IIIには、強力な大容量冷却ツールが搭載されており、長いエッチングサイクルで最大のプロセス再現性を維持できます。さらに、APO IIIは大量生産用に設計されており、完全に自動化されたパターン/アライメント試験および修復機能を提供できます。最後に、TRION APO IIIはユーザーフレンドリーでオペレータセーフであるように設計されています。LCD表示のタッチ画面を通して、ユーザーは容易にエッチングプロセスをセットアップし、監視し、プロセスの間にさまざまな診断を見ることができます。また、ガスアラーム、チャンバードライヤ、ガス漏れ・過圧検出モニタリングなどの安全システムを搭載し、より安全な動作環境を実現しています。
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