中古 TRIKON Sigma 200 #9225665 を販売中

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ID: 9225665
ウェーハサイズ: 6"-8"
ヴィンテージ: 1995
FxP Sputtering system, 6"-8" Set up for 6" Both 4" and 8" conversion kits included Automatic handling system for 25 wafers (3) Chambers: Ti / TiN, Al And Ar sputter clean PFEIFFER Turbo (2) EBARA Dry pumps (3) CTI Cryos with compressor (2) DC Generators (3) RF Generators 1995 vintage.
TRIKON Sigma 200は、先進半導体デバイスの製造に特化したドライプラズマエッチャー/アッシャーです。コンパクトで手頃な価格のパッケージで、エッチングとアッシュプロセスの両方に優れたパフォーマンスを提供します。シグマ200は、ウェーハ表面から揮発性有機化合物(VOC)を効率よくエッチングし、バックエッチングを最小限に抑えた極めてクリーンな表面を実現します。また、低コストでクリーンで高アスペクト比のエッチプロファイルを実現できます。TRIKON Sigma 200は、幅広いウエハサイズに対応できる大きさのワークチャンバーを備えています。このチャンバーには、最大3インチのウェーハと25mmのウェーハを扱うことができる自動ローディング装置が装備されています。高度なプロセス監視システムは、エッチングプロセスの変更を監視します。このユニットは、パルスおよび連続モードでエッチングおよびアッシュプロセスを制御することもできます。シグマ200には、頑丈なオールメタル設計と高トルクモータを搭載し、最大の生産性を実現しています。このマシンはまた、幅広い負荷にわたって優れたプロセス制御と再現性を提供します。シリコン、アルミニウム、ガラス、その他の酸化物など、さまざまな材料のプロセス要件に合わせてさまざまなガス入力も利用できます。TRIKON Sigma 200は、さまざまなエッチングおよび灰プロセスを提供します。これは、プロセスの精密制御を提供するために、可変圧力、流量、および電力レベルで、等方性および異方性エッチングの両方が可能です。このツールは、より高度な半導体デバイスに求められる高アスペクト比のエッチング形状も実現できます。さらに、このアセットは、ゲート酸化物エッチング、メモリセルのソースとドレインの開口部、および薄い金属膜の接触開口部にも使用できます。優れた品質と柔軟性を備えたエッチャー/アッシャーを必要とする人にとって、Sigma 200は理想的な選択肢です。その小さなフットプリント、低い運用コスト、優れたプロセス制御により、ユーザーはエッチングと灰の予算を最大限に活用できます。
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