中古 TEL / TOKYO ELECTRON Unity 855DD #9051321 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 855DDは、TEL （TOKYO ELECTRON） Ltd。が開発した高性能プラズマエッチャーです。このエッチャー/アッシャーは、回路基板、SiGe基板、ウェーハ、ナノ材料の高精度プラズマエッチングを提供する機能を備えています。また、同じ材料に優れた精度でプラズマを照射することも可能です。855DDは高速パルス電源設計を採用し、高い作業負荷能力で動作し、電極の摩耗を最小限に抑えることができます。独立したデュアルゾーンプラズマ制御を備えており、加工基板のエッチングとアッシングの両方を可能にします。デュアルゾーン制御により、エッチングの均一性とプロセスの再現性が向上します。855DDには長寿命の材料混合チューブも装備されており、エッチングおよびアッシングプロセスサイクル中に基板を均一に冷却します。ユーザーに必要なエッチングとアッシングに優れた柔軟性を提供します。855DDは48インチの観覧室を備えており、2つの独立したエッチングおよびアッシングシステムを収容し、また電極のための不可欠な水冷システムを備えています。この装置は、運転中に電極の温度を自動的に検出して、熱応力を制限することで欠陥率を低減し、歩留まりを向上させることができます。855DDは、基板の上面と下面の両方を同時に処理できます。これにより、スループットが向上し、エッチングおよびアッシングプロセスがより一貫して効率的になります。855DDは、最高品質の高度なプロセス制御技術を使用して、ユーザーがエッチングとアッシングのプロセスを正確に監視できるようにします。また、豊富なプロセス最適化設定をユーザーに提供し、エッチングとアッシングプロセスを微調整して、実行中のタスクに最適な結果を得ることができます。全体的に、855DDはユーザーに優れたエッチングとアッシング機能を提供するように設計された高度なエッチャー/アッシャーです。高精度のプラズマ制御、高いプロセススループット、高度なプロセス制御機能を備えており、ユーザーに非常に高い精度で使いやすいエッチングおよびアッシングソリューションを提供します。