中古 TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD #293775061 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DDは、半導体製造用途において高精度な加工能力を提供するために設計された先進的なエッチャー/アッシャー装置です。このシステムはTEL Unityシリーズのエッチング装置の一部であり、半導体業界でパターニングおよびエッチング処理に広く使用されています。TEL UNITY 2E 85 DDには最先端の技術と機能が搭載されており、材料の正確な除去とプラズマ処理のための汎用性と信頼性の高いツールとなっています。このユニットは、高い選択性と均一性で高いアスペクト比の構造をエッチングする必要がある深いシリコンエッチングプロセス用に特別に設計されています。TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DDの主な特徴の1つは、2つの異なるガスを同時にエッチングできるデュアルソース構成です。これにより、幅広いプロセス能力を実現し、さまざまな材料やプロセス要件に合わせてエッチング性能を最適化することができます。このツールはまた、ウェハ全体で効率的なプラズマ生成と均一な処理を保証する高出力RFジェネレータを備えています。UNITY 2E 85 DDには、高速ウェハローディングとアンロードのためのロードロックチャンバーが装備されており、プロセスのダウンタイムを最小限に抑え、全体的な生産性を向上させます。また、ロボットアーム技術を搭載した先進的なウェーハハンドリングモデルを搭載しており、処理中のウェーハの正確な位置決めと取り扱いを保証します。エッチング機能の面では、TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DDは、さまざまな材料タイプとプロセス要件に対応するさまざまなプロセスガスとレシピを提供します。フッ素系、塩素系、酸素系など様々なエッチング化学を取り扱い、様々な材料の高い選択性とエッチング率を実現しています。TEL UNITY 2E 85 DDには、エンドポイント検出技術やリアルタイム監視機能などの高度なプロセス制御機能も搭載しています。これらの機能により、正確なプロセス制御を実現し、エッチングの均一性を向上させ、ウェーハからウェーハまで一貫した処理結果を保証します。さらに、ユーザーフレンドリーなインターフェースと直感的なソフトウェアコントロールユニットにより、機械の操作とメンテナンスが容易になります。このツールには、安全で環境に優しい操作を保証するための高度な安全機能とガス除去システムも含まれています。全体的に、UNITY 2E 85 DDは、高度な処理能力、信頼性の高いパフォーマンス、および幅広い半導体製造アプリケーション向けの汎用性を提供する高性能エッチャー/アッシャー資産です。革新的なデザインと最先端の機能を備えたこのモデルは、半導体業界の要求の厳しいエッチングプロセスに適しています。