中古 TEL / TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS #293767161 を販売中
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ID: 293767161
ヴィンテージ: 2007
Etcher
Process: Oxide
(5) Loadports
iH160 Pumps:
Chamber position / Gases
Unit 1 / N2, C4F8, Ar, O2, CH2F2, CHF3, CF4, C4F6
Unit 2 / N2, C4F8, Ar, O2, CH2F2, CHF3, CF4, C4F6
Unit 3 / N2, C4F8, Ar, O2, CH2F2, CHF3, CF4, C4F6
Unit 4 / N2, C4F8, Ar, O2, CH2F2, CHF3, CF4, C4F6
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSSは、精密で信頼性の高い半導体デバイス製造プロセス向けに設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。半導体製造装置のリーディングプロバイダーであるTEL Limited(東京エレクトロン)が開発したTEL TSP-305555SSSSは、最先端の技術を統合し、半導体産業において極めて重要な高性能エッチングとアッシングプロセスを実現しています。TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSSは、半導体ウェーハの材料除去を微調整できる先進のプラズマエッチング技術です。このシステムには、反応性の高いプラズマ種を生成する最先端のRF (Radiofrequency)プラズマ源が搭載されており、高い選択性と均一性を持つさまざまな材料を効果的にエッチングします。この能力は、サブミクロン精度で複雑な半導体デバイス構造を作成するために不可欠です。さらに、TSP-305555SSSSはエッチングとアッシングの両方のアプリケーションをサポートする汎用性の高いプロセスチャンバー設計を備えています。このユニットは、さまざまなガス化学およびプロセスパラメータで構成でき、幅広い材料組成やデバイス設計に対応できます。この柔軟性により、半導体メーカーはさまざまなデバイス製造ニーズに応じてプロセス性能と歩留まりを最適化できます。TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSSは、高度なエッチング機能に加え、高度なプロセスモニタリング機能と制御機能を搭載し、一貫性のある再現性を確保しています。このマシンは、光放射分光法(OES)や質量分析法などのリアルタイムプロセスモニタリングセンサーを統合して、処理中のプラズマパラメータとエンドポイント検出を追跡します。これらの監視ツールにより、正確なプロセス制御とエンドポイント検出が可能になり、オペレータは所望のエッチング速度とエンドポイント精度を達成できます。さらに、TEL TSP-305555SSSSは、自動化とソフトウェア制御機能を組み込み、運用を合理化し、生産性を向上させます。このツールには、レシピ管理、パラメータ調整、およびプロセス最適化のためのデータ分析を容易にするユーザーフレンドリーなインターフェイスが装備されています。高度なソフトウェアアルゴリズムにより、予測的なメンテナンススケジューリングとリモート監視機能により、資産の信頼性と稼働時間を向上させます。TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSSは、クリーンルームの互換性、安全性、環境コンプライアンスなど、半導体製造環境の厳しい要件を満たすように設計されています。このモデルは、要求の厳しい運用条件下で長期的な耐久性と性能の安定性を確保するために、優れた材料とコンポーネントで構築されています。さらに、TSP-305555SSSSは、安全性、電磁適合性(EMC)、および環境規制に関する業界標準を遵守し、持続可能な製造慣行をサポートします。TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSSは、高精度の半導体加工アプリケーションに最適な最先端のエッチャー/アッシャー装置です。TEL TSP-305555SSSSは、高度なプラズマ技術、多彩なプロセス能力、堅牢な設計により、今日の競争力のある半導体産業において、優れたデバイス性能と歩留まりを達成するための信頼性の高いソリューションを半導体メーカーに提供しています。
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