中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9357266 を販売中
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ID: 9357266
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
CVD System, 12"
Process: BL GL Ti Dep
BROOKS AUTOMATİON TLG-LON Load port, (3) FOUPs
SHINKO SELOP12F25-30A-13
SHINKO SBX92101286-3 FI Robot
FUJI M-UPS050J22L-UL UPS
SANEI GIKEN TL7KCPVB-2P Chiller
MPD
Transformer box
Mainframe:
YASKAWA XU-RVM4100 Buffer robot
V TEX I-I-98009-2-1 LLM1.2 Gate valve
KITZ DOUBLE ACTION Chamber gate valve
Process chambers: PM1, PM2, PM3, PM4
Single wafer chamber
With stage heater
RKC INSTRUMENT INC Module heater controller
TEL TMC2001 Module heater controller
Column trap
KYOSAN HFK15Z-TW1 RF Generator
KYOSAN EAKIT RF Matcher
VERIFLO SQ-MICRO-602PUPGPA Regulator
LEYBOLD TSR211S Pirani sensor
INFICON VSA100A Pressure Sensor
MKS 626A01TDE Capacitance manometer
LEYBOLD CDG160A-S 1330PA Capacitance manometer (1333Pa)
LEYBOLD CDG160A-S 133PA Capacitance manometer (133KPa)
STEC VC131004ST20 Vaporizer (TiCL4)
Gases:
Gas / Make / Model / Valve
MFC2 / ClF3 / SAM / SFC1470FA / 500 SCCM
MFC5 / Ar / SAM / SFC1480FA / 5 SLM
MFC6 / H2 / SAM / SFC1481FA / 300 SCCM
MFC7 / NH3 / SAM / SFC1480FAPD / 0.6/2 SLM
MFC8 / N2 / SAM / SFC1480A / 2 SLM
MFM / TiCl4 / STEC / SEF-8240 / 20 SCCM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、半導体材料の微細加工に使用されるエッチャー/アッシャーです。このデバイスは、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）プロセスを使用して、基板表面に薄い層の材料を堆積させます。装置は、プラズマ室で燃焼したガス源を使用して真空中で動作し、厚さ制御された望ましい材料のフィルムを形成します。また、エッチャー/アッシャーは高い選択率を提供し、蒸着層の精密エッチングを可能にし、半導体材料特性の極めて精密な加工を可能にします。これは、異なるガスラインからチャンバーに幅広いガスを放出することによって実現されます。TEL TriasのRFジェネレータは、ガスからプラズマを生成する高周波信号を生成し、基板表面に向けます。TOKYO ELECTRON Triasでは、2段システムを利用したエッチング工程も提供しています。エッチングガスは、エッチング製品を作成するために必要な種を提供する反応性ガスとともに、チャンバーを通過します。この過程で、チャンバーは低圧（100mtorr未満）で動作し、チャンバー壁から離れて動作し、プラズマを最適な温度に保つのに役立ちます。さらに、Trias etcher/asherは、高い精度と均一性を達成するために、エッチングプロセスを正確に制御することができます。プログラムサクセスレポートやプロセスモニタリングシステムなど、さまざまな機能を備えており、再現性のあるエッチングと蒸着特性を実現しています。これは、すべてのデバイスが最高レベルの品質を生み出すことを保証するため、最も重要です。さらに、RFジェネレータと3D RFジェネレータを組み合わせることにより、ウェーハの負荷、アライメント、およびウェーハ温度条件により、均一でない成膜に効果的な補償を提供します。これにより、高品質のマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に不可欠な均一なエッチングおよび蒸着プロセスが保証されます。全体的に、TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、多種多様なエッチングおよび成膜アプリケーションに非常に役立ちます。高度な機能と容易な操作により、制御された環境での半導体デバイスの精密な製造が可能です。直感的なレイアウトと機能のおかげで、TEL Triasは現代の微細加工業界において不可欠なツールです。
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