中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9094190 を販売中
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ID: 9094190
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
CVD System, 12"
(3) TDK TAs3000 FOUP loaders
SPA-N components
Chamber parts:
Manufacturer Model Description
TEL - Slot antenna
TEL - Susceptor heater
TEL - Quartz liner
TEL - Susceptor cover
TEL - Baffle cover
MKS 626B01TBE Capacitance manometer (133Pa)
MKS 626B11TBE Capacitance manometer (133Pa)
MKS 623B-28316 Capacitance manometer (133kPa)
V TEX IRF-07084-2-01 Gate valve
Vacuum system:
Manufacturer Model Description
EDWARDS STP-A1603B Turbo molecular pump
Fuji Imvac HV-40N-R Throttle valve on a high pressure line
VAT 65046-PH52-AHS1 Throttle valve on a low pressure line
SMC XLA-40G-M9 Hi-vac valve on a high pressure line
SMC XLA-63A-M9 Hi-vac valve on a low pressure line
Exhaust system:
Manufacturer Model Description
Tokyo Flow Meter FF-MRA85-1-TYL1 Flow meter for cooling water
FF-MRA80-1-TYL1
Toyokokagaku RS-2000CA / RS-2000F-6417 Water leak sensor
SMC INR-497-100-X048 Chiller
Others:
Manufacturer Model Description
Nihon Koushuha MKN-502-3S2B03-OSC H-Wave power supply unit
Nihon Koushuha AMC-95Q1-CONT5 Auto matching unit
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、半導体デバイスの製造・研究開発用に設計されたプラズマエッチャー/アッシャーです。TEL Trias etcherは、マルチガン熱PECVD （Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）ソースを備えており、複数の材料層に高速かつ詳細なエッチングを可能にします。また、プラズマ密度を制御するための特許取得済みのApplied Negative Bias （ANB）技術を備えており、すべての基板材料にわたって均一なエッチング深度を実現します。エッチャーは、自動化されたプロセス制御とプログラマブルパラメータで簡単に操作でき、低コストで最大の歩留まりで動作できます。TOKYO ELECTRONトライアスエッチャーの基板温度は、精密なエッチングのために370Cまでプログラムすることができます。このプロセスは低圧で動作し、エッチング処理は電流制御バイアス電力を使用して真空チャンバで行われます。Trias etcherは、高精度のエッチングを生成することができ、高いプロセス再現性と小さなプロセスエラーを持っています。ポリシリコン、SiO2、 III-Vなどの材料を精密にエッチングすることもできます。TEL/TOKYO ELECTRON Trias etcherは、サファイアサセプター、フッ素パージガス、ソース温度モニターなどの消毒対策を行っています。エッチャーは、粒子の汚染を最小限に抑えるように設計されており、さらなる清潔さのための高度な低粒子濾過システムを備えています。TEL Triasは、高いスループット、操作性、洗練されたプラズマ制御により、あらゆる半導体デバイスの製造や研究開発プロセスにおいて最高レベルのエッチャーです。
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