中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9049825 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、高度な半導体デバイス製造用に設計された多機能エッチャー/アッシャー装置です。ICP （Inductively Coupled Plasma）源を用いた高度なアルカリAshingプロセスにより、サンプルの高速で高密度のドライクリーニングが可能です。このシステムはまた、超高密度デバイス用の高度なドライエッチングプラットフォームを提供し、III-Vデバイスとナノワイヤ構造をエッチングするための一連のプロセスを提供します。TELトライアスユニットは、気体の流れ、エッチング速度、温度、圧力などのエッチングパラメータを正確に制御し、最適化することができます。これにより、優れた再現性とエッチング結果の均一性が保証されます。このツールには、サンプルの読み込みとアンロードを効率的に自動化するための統合されたロボット機構もあり、サンプルの手動読み込みとアンロードの必要性を排除します。また、TOKYO ELECTRON Triasアセットは、プロセス診断・モニタリングツールとリアルタイム最適化機能を統合し、より正確なプロセス制御と歩留まり向上を実現します。トリアスモデルは、塩素、フッ素、三フッ化塩素、窒素四フッ化物など、幅広いエッチングガスをサポートしています。また、一貫したプロセス性能と優れた再現性を実現するin-situガス供給装置を備えています。エッチングプロセスは、特定のデバイス要件を満たすために簡単に調整できます。このシステムはまた、特定のデバイス要件のエッチング結果の最適化を可能にする多波長スペクトルモニタリングユニットを備えています。この機械は、光放射分光法を使用してリアルタイムでエッチング処理を測定することができ、エッチング処理を最適化するためのデータ解析パッケージが含まれています。TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、高度な安全・環境制御技術を駆使し、エッチング工程の清潔・乾燥・安全運転を実現しています。また、コンパクトなフットプリントのために設計されており、標準的な研究室に簡単に収まることができ、今日の研究およびデバイス製造のニーズに最適で費用対効果の高い選択肢となっています。