中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293824449 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 293824449
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system 3D NAND dedicated chamber.
TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、半導体業界で使用される最先端のエッチャーおよびアッシャーです。業界トップクラスの性能と信頼性を誇るリアクティブイオンエッチング(RIE)装置です。マイクロエレクトロニクス構造、ポリマー、ナノ構造のエッチングなど、半導体チップの製造に広く使用されています。TEL Triasは、エッチング、アッシング、クリーニングを1台で行えるマルチプロセスシステムです。TOKYO ELECTRON Triasは、HDPCVD (High Density Plasma Chemical Vapor Deposition)と結合した誘導結合プラズマ源を利用し、エッチング処理を最適化しました。トライアスは、スムーズで高精度なエッチング/アッシング操作を可能にする高度な制御装置を採用しています。また、さまざまな用途に合わせてさまざまなチャンバー構成を提供しています。チャンバーファーストTMセンサーを搭載し、チャンバーインテリアのモニタリングと汚染防止が可能です。さらに、TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、複数のチャンバーで同時にプロセスを実行できる革新的なMultiChamberTM機能を提供します。この機能は、コストと時間を大幅に削減するため、多くのエッチング処理に最適です。さらに、TEL TriasにはFlexibleGasTMツールが搭載されており、プロセスのニーズに応じてさまざまな種類のガスと組み合わせを選択することができます。TOKYO ELECTRON Triasはプロセスデータの管理も効率的です。ProcessSmartTMデータ収集アセットを備えているため、プロセスデータをリアルタイムで監視および評価することができます。高度な分析モデルは、生産性を最適化するためのプロセスに関する貴重な洞察をユーザーに提供します。最後に、Triasは潜在的なヒューマンエラーを最小限に抑え、メンテナンスコストを削減するように設計されており、費用対効果の高い方法で半導体チップを製造するための理想的な選択肢となっています。
まだレビューはありません