中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293821837 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 293821837
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system, 12" Process: Ta₂O₅ Thin-film deposition (2) Chambers 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、半導体業界向けの高性能プラズマエッチャー/アッシャーです。小さな半導体構造やウェーハのエッチング/アッシュを正確かつ安全に行うために使用されます。モジュール設計と統合されたプロセス制御ソフトウェアにより、効率的で費用対効果の高い高度なエッチング/アッシングプロセスを提供します。TEL Triasは、様々なプラズマエッチング/アッシング操作のための汎用性の高いプラットフォームを提供しています。TOKYO ELECTRON TRIASは、シングルウェーハ、両面ウェーハ、セラミックコーティング、メタルコーティング、クォーツコーティングなど、さまざまな基板に最高の精度のエッチング/アッシングを提供するために設計されています。結晶、多結晶、セラミック、シリコーンなど幅広い材質の製品を加工することができます。また、非常に高いエッチング精度と再現性を可能にする非常に精密な圧力制御装置を備えており、非常に高い精度で複雑なプロセスのエッチングを可能にします。Triasには、プリスパッタ、スパッタ、エッチング、スパッタ/エッチングなどのいくつかの操作モードがあり、同時に1つの操作を実行する機能、または複数の操作を一緒に実行する機能があります。統合されたプロセス制御ソフトウェアは、1つのボタン操作で複数の異なるプロセスを同時に監視および注文することができます。また、TEL/TOKYO ELECTRON Triasでは、最大99ステップのレシピをあらかじめプログラムしておくことで、最適なエッチング/アッシング操作が可能です。また、TEL Triasは高速自動レシピコントロール(HSAR)システムを搭載しており、素材やウエハサイズのさまざまな組み合わせを精度、精度、再現性でエッチングするために使用できるカスタマイズ可能なレシピへの迅速かつ簡単なアクセスをユーザーに提供します。さらに、ユーザーフレンドリーなソフトウェアには、急速な冷却を可能にし、ウェーハの反りを防ぐための冷却ユニットが内蔵されています。さらに、自動化された「スマートホーム」機能により、すべてのコンポーネントとアクセサリがジョブごとに正しい位置にあることが保証され、時間のかかるセットアップ準備が不要になります。最後に、東京エレクトロントライアスは、エッチング/アッシング操作に関連するすべてのデータを記録する長期データ記録機を搭載しています。このデータは、プラント管理、プロセス開発、欠陥分析などに使用できます。記録ツールには、シーケンシャルデータ形式のイベント履歴も備えており、ユーザーは処理されたウェーハを分析し、潜在的な問題を調査することができます。
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