中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293605722 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、高度な半導体デバイスやその他の複雑なデバイスの製造・加工に使用される高度なエッチング/アッシング（エッチバック）機械です。TEL Triasは、ウェットおよびドライエッチング機能を備えた多機能機械として設計され、制御された環境と幅広い材料の両方でエッチング/アッシュ処理を実行できます。TOKYO ELECTRON TRIASは、エッチング/アッシング工程において高い再現性と精度を提供する精密デジタル制御装置を備えています。Triasには2つのエッチング/アッシングチャンバーがあり、それぞれがさまざまなカッピング/エッチバックプロセスをサポートしています。最初のチャンバーであるウェットエッチングチャンバーには、真空と液体ベースのエッチングが装備されています。ウェットエッチングチャンバーは、アモルファスシリコンやPoly-Si Geなどの両材料のウェハ加工に適しており、アルミニウムや銅の表面の優れたエッチング/アッシングを提供します。2番目のチャンバーであるドライエッチングチャンバーは、乾燥した非真空エッチング/アッシングプロセスをサポートします。このチャンバーは、ポリイミド薄化、高度なパターニング、ドライフィルムエッチングなどのプロセスに適しています。TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、最適なエッチング/アッシング性能を確保するために、酸素流入システム、自己診断ユニット、RF電源などの幅広いコンポーネントを使用して設計されています。TEL Triasには自動ウェーハハンドリングマシンがあり、厚さ1mmまでの基板や層など、エッチング/アッシングに適した幅広いサイズのウェーハサイズが可能です。完全に自動化されたプロセス制御は、プロセス中にエッチング/アッシングパラメータを追跡および制御することができます。効果的なエッチング/アッシングマシンとは別に、トーキョーエレクトロントライアスはウェーハの洗浄や乾燥にも強力です。その洗浄プロセスは、重くラベル付けされ、汚染された表面、自動化された窒素泡の生成と液体処理を含みます。トライアスには多機能乾燥機能があり、微粒子と大型粒子の両方を高効率で高速に乾燥することができます。TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、高精度かつ再現性の高いウェット/ドライエッチング/アッシングプロセスを備えた、高度な半導体デバイスやその他の複雑なデバイスを製造することができる機械の優れた例です。TEL Triasの幅広いプロセス機能、使いやすい自動制御、高レベルのプロセス再現性により、産業および研究開発アプリケーションに最適なエッチャー/アッシャーとなります。