中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293592929 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 293592929
ウェーハサイズ: 12"
CVD Systems, 12" Process: Ti/TiN.
TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、半導体デバイス製造用に設計されたエッチャー/アッシャーです。200mmウェーハ容量のシングルウェーハツールです。それはエッチングされた表面の均一性を最大限に活用するために横方向の水平処理の技術を採用します。エッチャーには、調整可能なサイズの回転基板と液体アシストエッチング機能が含まれています。この機能により、均一なエッチング速度と、均等に分散されたエッチングの広い領域を実現します。基板を加熱・加圧することでエッチング速度を高め、同時に清潔感を保ちます。また、エッチャーの精度が高く、エッチングされたデータシートの形状とサイズを正確に再現することができます。エッチャーには、最大200mmのウェーハを収容できるシングルチャンバーチャンバーがあります。これにより、ポリシリコンやシリコン酸化物などの幅広い基質を処理することができます。また、ディープエッチング用のリアクティブイオンエッチング(RIE)も装備しています。デュアルモードイオン源により、フッ化物、フッ化水素、ホウ素、ハロゲン化物、窒化物など、さまざまなエッチング材料を使用できます。エッチャーは、汚染や清潔性の問題を最小限に抑えるように設計されています。エッチング工程を逆転させるリバースクリーニングシステムを採用し、クリーンなポストエッチング面を実現しています。これに加えて、システムは水蒸気および不活性ガスと荷を積むことができるトンネルのクリーンチャンバーを備えています。エッチャーには使いやすいソフトウェアインターフェイスがあり、さまざまなエッチングパターンに合わせて調整できます。ユーザーは、安定したエッチング速度を維持するための時間、または重要な領域に余分なエッチングを提供するための速度を調整することができます。このシステムには、指定された処理パラメータにウエハがさらされていることを確認するためのスキャンスケジュールも含まれています。全体的に、TEL Triasエッチャー/アッシャーは、エッチング速度と表面の均一性を優れた制御で、さまざまな基板でタスクを達成するのに最適です。正確な結果を迅速に生成するための信頼性の高い効率的なツールであり、高い生産性と費用対効果を保証します。
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