中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN #9253877 を販売中

TEL Trias TI/TINは、複数のエッチングおよびストリップ技術を組み合わせた高容量の自動エッチングで、幅広いレジストおよび基板材料にスムーズで高品質なエッチングを提供します。TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN装置は、粘着性と電磁気保護の高度な層を備えており、品質を損なうことなく信頼性と高容量のエッチングを保証します。シェイプウィザードソフトウェアで任意のプロセスプランをサポートし、堅牢で信頼性の高いPECVDモニタによりダウンタイムを大幅に削減します。TEL/TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN Etcherには、イオン電流の50mAを提供するバイアス源と、チューナブルエッチング電源のバイアス源という2つのプラズマ源が搭載されています。各ソースには独立して調整可能なプラズマパラメータと温度があり、エッチング中に最適な制御が可能です。TEL Trias TI/TINは多くの人に人気のある選択肢です。また、幅広い入出力電圧パラメータに対応しているため、医療機器や半導体デバイスとの直接的な互換性があります。また、温度・圧力変動に伴う異物混入を低減し、反応チャンバのドリフトを低減するために、東京エレクトロンTrias TI/TINのプロセスチャンバーを堅牢に構築しています。チャンバーは、さまざまなエッチング用途で簡単に開き、洗浄し、調整することもできます。また、ストリップおよびHFプリクリーンプロセス用の追加のミニシャッターチャンバーと、高剛性材料のスパッタエッチングに関連する特別なプロセスも含まれています。TEL/TOKYO ELECTRON Trias TI/TINの全体的な制御システムも非常に強力であり、Shape Wizardだけでなく、thinfilmパターンの簡単なジョブプログラミングとエッチングパターン認識のために設計されたグラフィカルユーザーインターフェイスも含まれています。このユニットには、自動調整タイムセッター、ESCキー、多言語サポートメニュー、およびプロセスを監視するための制御設定ウィンドウとアラームウィンドウが含まれています。さらに、プラズマ源への負荷を最適化することでエッチングコストを低減するECOモードや、プログラムされた限界を超えると電源を自動的にシャットダウンするOVLF（過負荷保護）マシンも搭載しています。結論として、TEL Trias TI/TINは、最高の効率と最適な結果を得るために設計された、信頼性の高いエッチャーです。汎用性の高いプラズマ源、堅牢なプロセスチャンバー、強力な制御ツールなどの高度な機能により、さまざまなエッチング用途に最適です。