中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN #293627026 を販売中

TEL Trias TI/TINは、半導体基板の高精度エッチングまたはアッシングを行うために設計されたエッチング/アッシュプロセス装置です。薄膜半導体製造に使用されるように設計されており、超薄膜や層状基板のエッチングやアッシングに最適です。この装置は、プロセスチャンバーと高精度の基板キャリアで構成されており、高いスループットと高い表面精度と安定性のユニークな組み合わせを提供します。プロセスチャンバーは、フローティングダイヤフラムで分離されたプロセスと排気チャンバーを備えたデュアルチャンバーシステムです。これにより、チャンバー内の圧力、温度、流量を正確に制御および測定できます。このシステムは、摩耗マークの形成や基板の損傷を最小限に抑えるため、高精度エッチングに特に役立ちます。チャンバーの温度は動的であり、200°Cから400°Cの温度範囲を可能にし、化学蒸着（CVD）プロセスなどのさまざまな用途を可能にします。チャンバーの圧力も調整可能で、1〜10 Torrの範囲に設定できます。Trias TI/TINはまた、直径4インチまでの基板をサポートすることができる高精度の基板キャリアを提供しています。基板キャリアは、エアーベアリングを使用してサスペンドし、エッチング/アッシングプロセス中にレベルの基板サポートを提供します。基板キャリアは、3軸での動作も可能であり、プロセス中に基板の正確なパターニングとアライメントを可能にします。TOKYO ELECTRON Trias TI/TINは、半導体基板のエッチング/アッシングのための先進的なツールであり、高精度と高スループットのユニークな組み合わせを提供し、幅広い用途に最適なツールです。デュアルチャンバー設計、動的温度および圧力設定、および高精度の基板キャリアは、さまざまなアプリケーション用のさまざまな基板をエッチングおよびアッシングするための幅広いオプションをユーザーに提供します。