中古 TEL / TOKYO ELECTRON Trias ALD #9294449 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Trias ALD （Atomic Layer Deposition）は、表面に厚さとカバレッジが正確な薄膜を作成するために使用されるエッチャーおよびアッシャーです。1つの原子層から数百ナノメートルまでの厚さの薄膜を堆積するように設計されており、分子レベルで精密な薄膜蒸着が可能です。TEL Triasはさまざまな堆積タスクを処理できます。温度、速度、方向、時間を含むコントロールのレベルを通じて、高い精度と精度を提供します。TEL Trias ALDには多数のコントローラが搭載されており、正確かつ一貫した操作が可能です。ロードロック機能により、機器に汚染物質を導入せずにウェーハの積み下ろしが可能です。また、多軸モーションコントローラを備えており、ウェーハの再現可能な動きと正確な位置決めを保証します。また、Triasには強力な排気とスクラビングシステムが含まれており、堆積プロセスでより高いレベルの純度を達成するのに役立ちます。東京電子トライアスは、ガスの流れ、温度、圧力を正確に制御するための高度なALDガスパネルを備えています。このユニットには、蒸着中にウェーハの温度を監視および自動調整する温度コントローラも含まれており、均一性と品質を確保します。TOKYO ELECTRON Trias ALDは、クローズドキャビネットやキーロックなどの安全機能を備えており、不正アクセスを防止します。また、緊急シャットオフスイッチ、機械故障時の自動シャットオフも備えています。全体的に、TEL/TOKYO ELECTRON Triasは、微細レベルでの精密薄膜沈着を保証するさまざまな機能と機能を備えた先進的なエッチャー/アッシャーです。精密かつ再現性のある蒸着プロセスのために設計されており、高水準の純度と均一性を提供します。このツールは、半導体、プラスチック包装、および医療産業における高度な薄膜材料の堆積に最適です。