中古 TEL / TOKYO ELECTRON Telius SCCM #293830627 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS SCCMは、半導体生産の厳しい要求を満たすように設計されたエッチャー/アッシャーです。さまざまな先進的な機能と仕様を備えており、研究および生産アプリケーションの両方にとって最も信頼性の高いエッチングツールの1つです。TEL TELIUS SCCMエッチャー/アッシャーは、化学機械研磨（CMP）および化学機械平坦化（CMP）用に設計されています。このエッチャー/アッシャーは3つの基本的なコンポーネントで構成されています：プロセスポッド、真空装置、およびコントローラーシステムを含むチャンバー。RFの発電機、配分アセンブリおよびプロセスヘッドを含んでいるプロセスデッキ；ウェーハホルダー、加工ヘッド、基板エレベーターを内蔵したプロセスポッド。東京エレクトロンテリウスSCMのチャンバーには、精密温度制御、真空センシング、遠隔操作など、さまざまな高度な機能が搭載されています。可変温度範囲により、再現性と信頼性の高いプロセス最適化が可能です。チャンバーには、プロセスをリアルタイムで監視し、必要な調整を行うための高解像度センサーも装備されています。Telius SCCMのプロセスデッキは、三相、高電圧、RFジェネレータによって駆動され、ウェーハ全体に均一なプロセスを提供するための分配アセンブリを備えています。プロセスヘッドはマルチステーションユニットで、最大6個のウェハを一度に処理できます。精密ポジショニングユニットと精密な空気吹き機を備え、一貫した均一な結果を保証します。基板エレベーターはウェーハの積み込み、移動、および荷を下すことを容易にするように設計されています。このエッチャー/アッシャーのプロセスチャンバーには、汚染のリスクを低減し、プロセススループットを向上させるように設計された自動ウェハ転送ツールも装備されています。ウェーハが異なるプロセス間を移動できるようにすることに加えて、トランスファアセットを使用してチャンバーから材料をロードおよびアンロードすることができます。チャンバーにはセルフクリーニング機能も装備されており、チャンバーが汚染されないようにします。TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS SCCMエッチャー/アッシャーは、高度なプロセスモニタリングと制御機能も提供しています。これには、異常なプロセス状況を検出するために使用できる埋め込みターゲット画像解析機能が含まれています。シーケンスエディタを使用すると、特殊なパラメータとプロセスシーケンスを定義することができ、エッチングと平面化プロセスをより大きな制御できます。全体として、TEL Telius SCCMエッチャー/アッシャーは、半導体製造および研究アプリケーションに最適です。これは、最も要求の厳しいエッチング要件を満たすように設計された多種多様な機能と仕様を提供し、一貫した結果と信頼性の高いパフォーマンスを提供します。