中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus Nitride #9243663 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus窒化物（TEL/TENP）は、窒化物フィルムのエッチングと除去に特化した高精度エッチャー/アッシャーです。パルスマイクロウェーブプラズマ技術と高度なプロセスコントロールソフトウェアを使用して、精密なプロセス制御と精密エッチング、そして非常に迅速なプロセスサイクルタイムを提供します。TOKYO ELECTRON/TENPは、さまざまな基板サイズや形状に対応できる高精度エッチングチャンバーを備えています。パルスイオンエッチング（RIE）プロセスを使用して、基板から窒化物フィルムをエッチングまたは除去します。高度なプロセス制御ソフトウェアは、エッチングプロセスを正確に制御し、幅広いエッチング処理条件を可能にします。高度なプロセス制御ソフトウェアはまた、処理条件の最適化を可能にし、エッチングとアッシング速度を大幅に高速化し、プロセス全体の再現性と均一性を向上させます。TEL/TOKYO ELECTRON/TENPは、低RF電力でフィルムをエッチングし、最大15〜50ナノメートルの窒化膜を除去します。エッチング処理は、室温、低温、高温など様々な温度で行われます。また、TEL/TENPは独自のプロセスチャンバー圧力と温度制御を備えています。これには、チャンバー内の圧力降下を補償する自動圧力制御システムと、温度変化を最小限に抑える温度制御システムが含まれます。TOKYO ELECTRON/TENPは、エッチングチャンバー内の窒素濃度を正確に制御できる自動窒素制御システムなどの高度な機能を備えています。これは、エッチングとアッシングのパフォーマンスを最適化するために使用できます。TEL/TOKYO ELECTRON/TENPには、プロセス実行中にすべてのデバイスパラメータを監視および制御できる高度なプロセス制御ソフトウェアも搭載しています。さらに、高度なプロセス制御ソフトウェアは、自己診断、レシピ管理、プロセスログの収集と予測機能も備えています。TEL/TENPは非常に汎用性の高いエッチャー/アッシャーで、幅広い用途や業界に最適です。これには、半導体ウェーハ、太陽電池、MEMSおよびその他のコンポーネント上の窒化物フィルムおよびその他の誘電体のエッチングと除去が含まれます。エッチャー/アッシャーとして、エッチング障害物の除去、サイドウォール構造の精製、誘電体の均一性の向上、精密なエッチングとアッシングに最適です。TEL/TOKYO ELECTRON/TENPも信頼性が高く、操作やメンテナンスも簡単です。これにより、さまざまな業界やアプリケーションに最適です。