中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus IRAD Oxide #293822431 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus IRAD Oxideは、様々な材料の高性能プラズマエッチングを提供するように設計された先進的なエッチャー/アッシャーです。本装置は、ICP （Inductively Copled Plasma）ソースを使用して、SiN、ポリイミド、TiN、 SiO2、 SiONなどの幅広い基板を高速かつ低熱予算で処理できる高密度プラズマを作成します。また、プログラム可能なEnd Point Detection （EPD）アルゴリズムを含む高度なコンピューター制御機能を備えており、複数の基板タイプにわたって一貫したエッチングプロセスパラメータを確保します。TEL TELINDY Plus IRAD Oxideは、プラズマ密度とエッチング時間を正確に制御するために、ICPとRFの電力レベルを直接変調できるマイクロ波電源制御ユニットを備えています。これにより、毎時最大180基板の最大スループットで正確に制御されたエッチングが可能になり、生産性の高いソリューションとなります。エッチングチャンバーには、多数のターボポンプと必要なターボポンプバイパスが組み込まれており、迅速なプロセスインテルサイクルタイムを可能にします。さらに、熱損傷を最小限に抑え、エッチング精度を維持するために、統合されたウェハ冷却機を備えています。TOKYO ELECTRON TELINDY Plus IRAD Oxideは、金属、窒化物、酸化物、プラスチック、ポリマーなど、幅広い厚さと材料をエッチングすることができます。高度なプログラミング/診断機能により、エッチングプロセスのリモート監視と自動最適化が可能になり、生産性が最大限に向上します。さらに、このツールはN2、 Ar、 O2、 SF6などの複数のガスと互換性があり、多様なエッチング機能を可能にします。エッチレシピは、簡単なリコールと再現性のために保存され、TELINDYコントローラーソフトウェアとリンクしてさらにカスタマイズすることができます。全体として、TELINDY Plus IRAD Oxideは、幅広い基板に高速で一貫した正確なエッチングを提供するように設計された強力なエッチャー/アッシャーです。高度な機能と自動化されたプログラミング機能により、1時間あたり最大180個のウェーハを使用することで、高品質で再現可能なエッチング結果を実現します。