中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD #9285008 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALDは、半導体デバイス、複数の光学アプリケーション用の薄膜、および磁性材料を含む様々な製品を製造するための薄膜の成膜用に特別に設計されたエッチャー/アッシャーです。この装置は、高精度で再現性のある蒸着プロセスである「ガス専用」原子層蒸着（ALD）技術の改良版に基づいています。フィルムの厚さを正確に制御する機能は、ALDプロセスの主な利点の1つです。TEL TELINDY Plus ALDシステムには、真空チャンバー、蒸着源、排ガスライン、ガス供給ユニット、電気機械、機械工具、安全装置が装備されています。真空チャンバーは蒸着プロセス用に設計されており、多種多様な材料に対応できます。この蒸着源は、高精度のマイクロメーターヘッドと精密な圧力計を使用して、蒸着の露出時間と持続時間を制御します。排ガスラインは、運転中に発生するガスを安全に処分するために使用されます。ガス供給資産は、ALDプロセスに必要なガスの流れを提供し、電気モデルは機器に必要なすべての電力を提供します。メカニカルシステムは、蒸着源や排ガスラインなどの部品の位置と動作を調節できる一連のモーターとバルブで構成されています。ユニットに取り付けられた安全装置は、機械の故障や潜在的な危険が発生した場合の人員と機器の保護に役立ちます。TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALDツールは、薄膜の成膜に関していくつかの利点を提供します。このアセットは、材料の均一な堆積を保証するのに役立ち、より高い精度と再現性を可能にします。また、堆積サイクルを制御することで、極めて特殊な厚さのフィルムを堆積させることができます。これは、薄膜の正確なフィッティングを必要とするアプリケーションにとって有益です。最後に、このモデルは蒸着プロセスの効率を高め、より速い蒸着時間と低コストを可能にします。全体として、TELINDY Plus ALDは、薄膜の高精度で再現性のある成膜用に特別に設計されたエッチャー/アッシャーです。これは、精度と再現性の向上、蒸着サイクルの正確な制御、効率の向上など、従来の蒸着技術に比べていくつかの利点を提供します。これにより、薄膜を必要とする用途に最適です。