中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD #293818327 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALDは、集積回路製造用の薄膜を精密に成膜するために設計されたエッチャー/アッシャーです。原子層成膜（ALD）を使用して、2〜50nmの範囲で適合寸法の薄膜を作成します。これにより、正確な寸法と非常に高い適合性を持つ構造を作成することができます。TEL TELINDY Plus ALDは、低圧、低温プロセスチャンバー、高度なオートメーション/制御装置を備えています。チャンバー自体は、適切なエッチングと蒸着を保証するために温度と圧力制御された真空システムです。自動化された制御ユニットは、温度、圧力、ガス流量、蒸着速度などのALDプロセスのさまざまなパラメータを監視および制御するために設定されています。ALDプロセスを正確に制御するために、東京エレクトロンテリンディープラスALDには、反応ガスの流れを正確に制御できる自動ガス供給機が装備されています。さらに、このツールは、基板の形状とサイズに関係なく最適なALDプロセスを提供するように設計されたツールアセットを備えています。工具細工は手動および自動化されたプロシージャを使用するように設計されています。これにより、シリコン、石英、ガラスなど、さまざまな基板で動作することができます。TELINDY Plus ALDは、精密なフィルムプロファイル制御のための高度なウェハセンシングとトラッキングモデルも備えています。この装置は、他のプロセスパラメータと組み合わせて、成膜速度と膜厚を制御します。ウエハトラッキングシステムにより、フォトレジスト加工やマスクアライメントの微調整も可能です。安全面では、TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALDは、人員や機器に害を及ぼすリスクを最小限に抑えて機能するように設計されています。チップ/ウェーハの加工時間制限や、予期せぬ圧力上昇に備えた圧力リミッターなどの安全機能が内蔵されています。また、事故時の適切な安全性を確保するため、真空インターロックマシンを装備しています。全体として、TEL TELINDY Plus ALDは、Atomic Layer Deposition （ALD）アプリケーション向けに特別に設計された多数の機能、プロセス、および安全プロトコルを備えた高度なエッチャー/アッシャーです。2〜50nmのコンフォーマルな寸法を持つ薄膜の精密な蒸着、自動ガス供給ツール、ツーリングアセット、ウェハセンシングおよびトラッキングモデル、および安全機能を提供します。TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALDは、集積回路などの電子部品を製造するための優れた機器です。