中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD #293818326 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD （Atomic Layer Deposition）は、ウェハレベルおよびデバイスレベルのアプリケーション向けに幅広い半導体処理機能を提供する堅牢なエッチング装置です。これは、degasチャンバー、サセプター、ロードロック、エンドエフェクタロボット、マルチチャンバーシャワーヘッド、反応チャンバ、および小型環境モジュールなどの幅広いコンポーネントと高度に統合されています。このシステムは、材料沈着、反応性イオンエッチング、サーマルアニーリング、および急速なサーマルアニーリングなどの用途に使用されます。TEL TELINDY Plus ALDは、ウェハサイズに関係なく、基板の厚さに優れたエッチング均一性と優れたプロセス再現性を提供します。このユニットはクローズドループ温度制御機能を備えており、重要なエッチング動作中に温度を正確に制御することができます。大型ウエハや大量生産に対応できる大型バッチ加工エリアを提供しています。さらに、統合されたマルチステップエッチングプロセスにより、高度な製造プロセスのためのより複雑な構造形成が可能になります。東京エレクトロンテリンディプラスALDは、強力なエッチング機能に加えて、開発された信頼性の高いソフトウェアツールも提供しています。オープン実行制御、統合されたマルチステッププロセス、リアルタイム炉マシンモニタリング、および強化されたガス配送監視を備えた統合レシピマネージャを提供します。このツールを使用することで、プロセスエンジニアはエッチングプロセスを簡単に最適化し、最小ダウンタイムでより高いスループットを達成できます。TELINDY Plus ALDも高品質のエッチング結果を提供するように設計されています。ナノメートルレベルの厚膜エッチング処理が可能です。また、オプションで高出力の無線周波数（RF）エネルギーを搭載しており、高レートのエッチングが可能です。このアセットには、精密基板エッチング用の高度なレーザー制御も装備されています。また、複数の異なるエッチング周波数を一元的に動作させる独自の周波数変換コントローラも搭載しています。TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALDは、ウェハレベルまたはデバイスレベルのプロセスに優れたエッチングソリューションを提供します。包括的なソフトウェアツールと高度な処理能力を備えたこのモデルは、研究と製造の両方に信頼性の高い強力なエッチングソリューションを提供します。精密エッチコントロール、高レートエッチプロセス、高品質のエッチング結果により、あらゆる業界レベルのアプリケーションに最適です。