中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K #9128140 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-Kは、高度なエッチングおよびアッシング処理用に設計されたエッチャー/アッシャーです。低K酸化物、高K誘電スタック、ライン/スペースパターニングなどの材料向けに設計されています。エッチングとアッシングの両方と高度なプロセス制御を組み合わせ、より迅速で精密な処理を実現する完全な装置です。TEL TELINDY Plus ALD High-Kシステムには独自のパラボリックマイクロ炉ユニットがあり、高温で最適化された非常に幅広いプロセス温度で高いエッチングとアッシング速度を提供することができます。機械はまたよりよい装置許容および反復性を保障する高度のプロセス制御が装備されています。複数の自動プロセスシーケンサー（APS）を備えており、必要なプロセスを素早くプログラムし、ツールの汎用性と柔軟性を拡張するために使用できます。また、2つの独立した高感度水晶マスモニターと酸化還元（OR）エッチング制御を備えており、高いプロセスの再現性と均一性を確保しています。また、最先端のコンタミネーションコントロールメカニズム（CCM）を採用し、最高レベルのウェーハ清浄度を維持しています。CMEプロセスは、急速な回復を防止し、プロセス中に高いレベルの血漿清浄度を維持するための独自の技術のユニークなセットです。また、プロセス性能を向上させながら、汚染や化学物質を最小限に抑えるために、特許取得済みのオープンチューブ設計とガスシャワーを備えています。さらに、高性能メインポンプ、セカンダリポンプ、ターボ分子ポンプ、真空スイッチングバルブからなる高集積真空装置を搭載し、高性能運転とコンタミネーションを最小限に抑えた設計となっています。また、プロセスエリア内のさまざまな場所で粒子サイズを監視、測定、ログ記録することができる自動in-situパーティクル測定システムを備えています。TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-Kユニットは、高度なデバイス製造のための信頼性の高い反復可能なエッチングとアッシングを提供するように設計されています。エッチング/アッシング速度を高速まで高速化する2インチ以上の大型直径に適しています。また、低K酸化物、高K誘電スタック、ウェハレベルの高いプロセス再現性とデバイス許容性を備えたラインスペースパターンに適しています。そのユニークな機能の範囲で、それは多くの高度なデバイス製造アプリケーションのための理想的なエッチャー/アッシャーです。