中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K #293665667 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K etcher/asherは、半導体基板に高品質の薄膜コーティングと相互接続を作成するための最先端の機器です。プラズマ増強型原子層成膜（ALD）を用いて、誘電定数が二酸化ケイ素（SiO2）を上回る高k材料を基板上に堆積させます。TEL TELINDY Plus ALD High-Kシステムは、フィルムのパターン化と薄型化をワンステップで行える本格的なエッチングユニットです。従来のドライエッチング機では使用できなかった高kフィルムでの使用を想定して設計されていますが、東京エレクトロンテリンディプラスALD High-Kでパターン化・エッチングが可能になりました。エッチャーは、高度なエッチングと蒸着ハードウェアを備えた大型プロセスチャンバーと、正確なプロセス監視と制御を提供するインテリジェントなプロセス制御ツールを備えています。プロセス部屋はステンレス鋼から構成され、良質の結果を達成するために各プロセス変数を安全にそして効果的に制御することができます。また、デジタルイメージング顕微鏡をはじめとする先進的な光学機器や診断機器も搭載しており、薄膜成膜プロセスを常に見守ることができます。エッチャーには独自のプロセスガス供給モデルが搭載されており、蒸着速度、膜厚、均一性、およびその他の重要なパラメータを正確に制御できます。また、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、窒化チタンなど、さまざまな材料を堆積することができます。さらに、シリコン、ヒ素ガリウム、低k誘電体、プラスチックなど、さまざまな基板に対応しています。TELINDY Plus ALD High-K etcher/Asherは、エッチング機能に加えて、コーティングおよびパッシベーション機能も提供します。ユーザーが異なるプロセスの異なるプロセスレシピを選択することができます高度な堆積ソフトウェアが装備されています。また、エッチングや成膜のプロセスをすばやく作成して保存できるため、ジョブの要件に応じてプロセスをすばやく切り替えることができます。さらに、イオンビームスキャナやFoup Cleanerなどの高度な安全機能により、ツールの寿命に合わせてユニットが安全かつ確実に動作するようにします。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K etcher/asherは、高kフィルム処理のための強力で信頼性の高いツールです。エッチャー/アッシャーは、蒸着プロセスの精密制御だけでなく、エッチングと蒸着のためのさまざまな材料や基板を提供し、高度な半導体の研究開発のための理想的な選択肢となります。