中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K #293644138 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-Kは、株式会社TELが開発したエッチャー/アッシャーです。（TOKYO ELECTRON）。この高度なエッチングツールは、高精度の半導体デバイスを製造するために使用されます。その高度な機能により、トレンチ、溝、構造などの高精度デバイスの形成を含むがこれに限定されない幅広い製造プロセスに適しています。半導体ウェーハのプラズマエッチング；高k誘電体材料の原子層の沈着（ALD）。TEL TELINDY Plus ALD High-Kは、エッチングパラメータとプロセスサイクル時間を正確に制御できるエッチャー/アッシャーです。マグネトロンスパッタエッチング源を利用して、リアクティブイオンエッチング（RIE）層をウェハ表面に堆積させます。このRIE層は、回転可能な陰極でエッチングされ、目的の構造を作成します。エッチングの正確な深さは、ナノメートル範囲の追加の幾何学的制御とともに達成可能です。また、東京エレクトロンテリンディープラスALD High-Kのエレクトロニクスは、スパッタプロセス自体のパラメータを最適化し、レイヤー加工の完璧な幾何学的精度を実現します。エレクトロニクスには、3つの独立して制御されたソースも含まれており、最適で再現可能なプロセスフローを可能にします。このツールは、高k誘電体材料の原子層成分（ALD）にも使用できます。ALDプロセスは気体前駆体を使用して単層を作成しますが、このツールのAC容量結合プラズマ技術は層形成の精度を高めます。ALDプロセスによって形成された層の全体的な厚さは、ツールによって正確に決定することができ、正確に調整することができます。TELINDY Plus ALD High-Kは、ウェーハ表面全体にわたって優れた再現性と均一な成膜を提供します。このツールは、従来の方法に比べて高精度で効率的なウェーハの製造と製造に適しています。このエッチャー/アッシャーを活用することで、半導体デバイスメーカーは、あらゆるサイクルで、より良い性能、最適な歩留まり、高品質で信頼性の高い結果をもたらす製品を製造することができます。