中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY IRAD ALD Oxide #9294226 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY IRAD ALD Oxideは、高度なICデバイス製造に適した先進的なドライエッチングプラットフォームです。伝統的なエッチング技術と高度な酸化技術を組み合わせ、幅広い材料で複雑な構造を製造するための精密なエッチングソリューションを提供します。エッチャー/アッシャーは、2つの隣接する作業室で構成されています。どちらも真空下にあります。下部のチャンバーはエッチング室、上部は酸化チャンバーです。エッチングチャンバーには、エッチングガスの送達と高密度プラズマの生成に使用される2つの独立したマグネトロンが含まれています。このチャンバーは、超高密度のため、金属、有機材料、誘電体などの材料をエッチングするために使用できます。エッチング率は正確で、サンプルからサンプルまで再現可能です。酸化チャンバーは、原子層成分（ALD）を利用して、選択した領域に酸化物の層を作成します。堆積材料は、特定の基材だけでなく、必要な保護レベルに適しているように調整することができます。ALDトファット機能は、エッチングされた領域の均一性も保証します。TEL TELINDY IRAD ALD酸化エッチャー/アッシャーは、ウエハの向き、基板加熱および冷却、エッチプロファイルの測定、プロセスの再現性など、数多くのプロセスを備えています。そのソフトウェアインターフェイスは、安全性と各プロセスとの互換性を確保するレシピ管理機能を統合しています。それはすべての必要な変数の驚くべき精密制御の信頼でき、堅牢な用具です。TOKYO ELECTRON TELINDY IRAD Oxide Etcher/Asherで使用されるALD酸化エッチング技術は、高精度エッチングと成膜に最適なツールです。非常にユーザーフレンドリーで、反復可能で正確なエッチングと蒸着を保証する高度なレベリング技術を提供します。金属、有機材料、誘電体など様々な基板に使用でき、先進的な機能セットによりデバイス製造に最適です。