中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9313281 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは、半導体デバイス製造のための高度なエッチングおよびアッシャー装置です。このシステムは、化学蒸着（CVD）、原子層蒸着（ALD）、電気化学蒸着（ECD）などのさまざまな機能を備えた、高K、マルチチャンバーエッチングおよびアッシャーを備えています。このユニットは、高K誘電体材料の超薄型層の製造など、ハイレベルな用途のための比類のない精度と制御を提供します。TEL TELFORMULA ALD High-Kは、さまざまな機能と制御オプションを備えた高Kマルチチャンバーエッチングおよびアッシャーマシンを提供します。エッチャー/アッシャーは、複数の薄膜層を一度に処理するように設計されており、各層の厚さと粗さを正確に制御します。このツールは、リソグラフィーマスクを使用して、レイヤーを目的の形状に正確にパターン化することもできます。さらに、この資産には多方向プラズマ源が装備されており、エッチング/灰プロセスをより大きな制御することができます。高Kマルチチャンバーエッチングとアッシャーは、安定した均一な蒸着を提供し、高品質の選択的エッチングと灰プロセスを提供します。また、プロセスの再現性に優れており、複数のレベルのエッチングとアッシュサイクルをユーザーに提供します。また、東京エレクトロンテルフォームラALD High-Kによるエッチング/アッシュプロセスは、お客様固有のニーズに合わせて調整することができます。このモデルには、in-situイオンモニター、in-situ分光化学分析、etch resistアプリケーション、原子粒子検査など、さまざまなプロセスツールも装備されています。in-situイオンモニターは、チャンバーシステム内のイオン濃度を正確に測定するために使用できる高度な分析ツールであり、ユーザーはプロセスをより正確に制御することができます。一方、in-situ分光化学分析は、薄膜層の特性を監視するために使用することができます。エッチレジストアプリケーションは、エッチングまたは灰プロセスの前に特定の領域を正確にマスクするために使用できますが、原子粒子検査ツールは、プロセス後にチャンバーに残る可能性のある小さな粒子を測定するために使用されます。TELFORMULA ALD High-Kは、比類のない精度、制御、機能をユーザーに提供する高度なエッチング/アッシャー機器です。これは、化学蒸着、原子層蒸着、電気化学蒸着などの様々な機能を提供し、エッチング/灰プロセスのより大きな制御を可能にする多方向プラズマ源を備えています。このシステムは、エッチング/アッシュサイクルの複数のレベルと、さまざまなプロセスツールも提供しています。このユニットの高Kマルチチャンバーエッチングおよびアッシャーは、ユーザーに最高の精度と制御を提供し、超薄型高K誘電材料の製造などの要求の厳しいアプリケーションに最適です。