中古 TEL / TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K #9282599 を販売中
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販売された
ID: 9282599
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2015
Vertical LPCVD Furnace, 12"
VCM-5D-012L Heater
Maximum operating temperature: 300°C
ART Control
N2 Load lock
Wafer type: Si SEMI STD-Notch
(50) Production wafers
Loading area light: White (LED)
RCU Duct length FNC to RCU: 20m
Chemical prefilter hydrocarb
Chemical prefilter location: FNC Top
Dry pumps missing
Wafer / Carrier handler:
Carrier type: FOUP / 25-Slots SEMI STD
ENTEGRIS A300 FOUP
Carrier stage capacity: 10
Info pad A,B: Pin
Info pad C,D: Pin
Fork material: Al2O3
Furnace facilities:
Furnace exhaust connection point: Top connection
Cooling water connection point: Bottom connection
Air intake point: Top
Gas distribution system:
IGS Type: IGS 1.5" W-Seal rail-mount
FUJIKIN IGS System
Tubing bends: <90°C
PALL IGS Final filter
IGS Regulator: CKD
HORIBA STEC IGS MFC Digital
HORIBA SEC-G111 IGS MFC For low flow N2 purge
IGS Press transducer: Nagano
HORIBA STEC LSC-F530 Liquid source vapor system
For ZAC HORIBA STEC TL-2014
Auto refill system TMA: AIR LEQUIDE / CANDI
Auto refill system ZAC: AIR LEQUIDE / CANDI
OP-500H-RE1 Ozone delivery system
Injector O-Ring material: DU353
Gas facilities:
Incoming gas connection point: Bottom connection
Gas VENT Connection point: Bottom connection
Exhaust VENT Connection point: Bottom connection
Gas unit exhaust connection point: Bottom connection
Exhaust:
Vacuum gauge pressure controller: MKS Capacitance manometer (Hot)
Vacuum gauge press monitor 133 kpa: MKS Capacitance manometer (Hot)
Vacuum gauge pump monitor: MKS Capacitance manometer (Hot)
CKD VEC-VH8-X0110 Main valve
VYX-0279-CONT Controller
EDWARDS iXH-1820T Pump
EDWARDS TPU Abatement system
Type: Burning type
Exhaust box: Wide type (1200mm)
Exhaust O-Ring material: DU353
FNC Power box: 30m
FNC RCU: 30m
Power box RCU: 30m
Power box pump unit: 30m
Power box refill system: 30m
Host communications: Comply with GJG
Equipment host I/F Connection: Power box top HSMS (10Base-T/100Base-TX)
Ingenio
OHT Capability
Load port operation: Lower and upper
PIO I/F Location: FNC Top
PIO: TEL
HOKUYO DMS-HB1-Z PIO
Carrier ID Reader writer type: RF
CIDRW Lower L/P: Read
CIDRW Upper L/P: Read
CIDRW FIMS: Read / Write
CIDRW: HOKUYO DMS-HB1-Z Series
CIDRW Tag orientation: Vertical
Customized management signals: PT / Water
Interface:
Signal tower model: LCE Series
Signal tower colors: Red / Blue / Yellow / Green
Signal tower location: Front for (10) Stockers (Left)
Front operation panel
MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel Installed
Indicator type: HOKUYO DMS-HB1-Z series
Operator switch: Operator access / White cover with orange light
Pressure display unit: MPa / Torr
Cabinet Exhaust pressure display: Pa
Power:
Power cable input entrance loc: Power box top
Power supply:
3 Phase connection type: Star connection
200/400 VAC, 60 Hz, 3 Phase
2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-Kは、電子機器の高度な製造のために設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。この装置は、最高+/-15Aの精度で超薄膜の均一なエッチングとアッシングを提供するように設計されており、優れた製造性能を提供します。TEL TELFORMULA ALD High-Kは、設置面積と高さをわずか21cmに抑え、他のアッシャーに比べて使い勝手に優れ、高精度エッチングを必要とする用途に最適です。TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-Kは高度なCIU （Chamber Interface Unit）を搭載しており、幅広いプロセス領域で高いエッチングとアッシング能力を発揮します。低圧、高温、低熱の予算を組み合わせることで、複雑な構造や特徴を再現性と制御性を兼ね備え、優れた結果を得ることができます。さらに、Telformula ALD High-Kは、インジェクションマスクを使用してより複雑なパターンを生成し、ラインとスペースジオメトリを使用してより細かい機能を生成することができます。TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-Kは、エッチング周波数を調整可能なパルスプラズマモードを内蔵し、エッチング時間を短縮します。これにより、さまざまな薄膜や用途でのターンアラウンドタイムを短縮できます。さらに、TEL Telformula ALD High-Kは、ロボットウェハローディングと品質管理システムを完全に自動化し、プロセス制御と再現性を向上させています。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは耐久性と信頼性に優れています。このデバイスはまた、金属、合金、セラミックスなどの様々な材料と互換性があるように設計されており、さまざまなプロセス要件を持つ製造業者により汎用性が向上しています。全体として、Telformula ALD High-Kは、優れたプロセス制御機能を備えたさまざまな最新の電子デバイス用に設計された信頼性の高い精密なエッチャー/アッシャーです。共振周波数を調整できるため、プロセス制御とターンアラウンドタイムを改善できます。TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは、耐久性と信頼性を兼ね備え、様々な材料との互換性を提供することで、製造メーカーの汎用性を高めます。
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