中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9154830 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは、高度なリソグラフィと微細加工用に設計されたエッチャー/アッシャーです。このエッチャー/アッシャーには、真空環境での精密かつ正確なエッチングを可能にする高性能で精密に制御された大気反応蒸着ツールが装備されています。TEL TELFORMULA ALD High-Kは、低圧と高圧の両方の環境に対応できます。これにより、物理システムと化学システムの両方のエッチングが可能になります。エッチングは、一貫した反応速度と均一なエッチングを確保するために、反応性ガスで行われます。ALD High-Kには、ガスの流れ、温度、圧力を自動的に調整する特許取得済みの「動的制御システム」と、幅広いエッチングパラメータを使用して微細に制御されたエッチングプロセスを生成するための蒸着時間も含まれています。この高度なエッチャー/アッシャーは完全に囲まれており、エッチング速度の非常に高い精度を提供します。環境の温度と組成も正確に設定することができ、さまざまな材料を同じプロセスでエッチングすることができます。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは標準と薄膜の両方のエッチングが可能です。エッチングプロセスは、消耗品の低コストと低消費電力で非常に効率的です。エッチングは、最小のアンダーカットと酸化なしで幅広いアスペクト比をエッチングするように設定できます。TELFORMULA ALD High-Kは、半導体、IC、 PCB、およびMEMSの製造に使用されています。この汎用性の高いエッチャー/アッシャーは、ラピッドプロトタイピング、3Dプリント、ナノテクノロジー、およびその他の高度な製造アプリケーションにも使用されます。ALD High-Kは、過熱保護、O2レベルが低すぎると自動シャットオフ、高温絶縁など、安全な動作を保証するための高度な安全機能を備えています。エッチャー/アッシャーには、長いプロセスと短いプロセスの両方のシングルステップおよびマルチステップエッチングが含まれています。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは、高度なリソグラフィと微細加工のために設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。この高度なエッチャー/アッシャーは、真空環境でガスの流れ、温度、圧力を調整することにより、高精度なエッチング結果を得ることができます。このエッチャー/アッシャーは、半導体、IC、 PCB、 MEMSなど、さまざまなアプリケーションでも使用されています。