中古 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9149552 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは、誘電体、金属、合金など、さまざまな半導体材料をエッチングするために設計されたエッチャー/アッシャーです。このマシンは、オンウェーハまたはバッチエッチング処理の柔軟性を提供するコンパクトなスタンドアロンエッチング装置です。ウェーハ上のエッチングプロセスを超精密に測定するための統合された水晶マイクロバランスと、ウェーハ材料の光学エンドポイント検出を備えています。TEL TELFORMULA ALD High-Kは、高度な電源制御、熱酸化率、エッチングレート、エッチングガス組成、ガス圧力制御など、幅広いプロセスパラメータを備えた高度なプロセス制御を提供します。また、ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）と高度なクラスタベースのクラスタ制御を複数のプロセスに提供します。リニア同軸RFジェネレータを採用し、横損傷を最小限に抑えた高精度な深度エッチングが可能です。この特徴はより高い均等性およびよりよいイメージ投射の結果を提供します。また、精密な薄膜蒸着により、電気特性に合わせた層を生成し、光学リソグラフィの実装を容易にするための包括的なツールセットを備えています。機械のプロセスガスソースにより、ユーザーはエッチング速度を制御し、選択したプロセスに最適なガスを選択できます。また、エッチング工程に最適なイオンエネルギーを提供するために、RFバイアス制御ユニットを装備しています。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kのプロセスチャンバーは、プロセスの一貫性を確保するために調整可能な温度および圧力制御も提供します。さらに、このマシンは特許取得済みの熱成長機で設計されており、短期的な粒子生成を最小限に抑え、高レベルのプロセス一貫性を確保します。TELFORMULA ALD High-Kは、操作を容易にするための自動ウェハローディングおよびアンロードツール、プロセスシミュレーション用のコンピュータベースのソフトウェアパッケージ、および簡単なツールのアップグレードと拡張性のためのモジュール設計も提供します。包括的で使いやすいソフトウェアパッケージを備えたこのマシンは、さまざまな基板で動作するように設計されており、幅広い産業用および家電用アプリケーションに最適です。TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-Kは、高度なエッチング用途に最適です。